[发明专利]扭转振动降低装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于通过惯性质量体的往复运动或摆动运动来降低扭转振动的装置。

背景技术

在日本专利申请公开No.8-93855(JP 8-93855 A)和日本专利申请公开No.8-93854(JP 8-93854 A)中描述了这种类型的装置的实例。在这些装置中的每个装置中，惯性质量体被构造为滚动体。滚动体被形成为使得滚动体的轴向长度比旋转体的板厚长，并且对于滚动体的整个周缘而言在其轴向方向上的中央部分中形成有环形凹槽，该环形凹槽的宽度稍大于旋转体的板厚。特别地，在JP 8-93854 A中描述的装置中，旋转体被构造成包括两个部件：滚动件，该滚动件在一端处形成有凸缘形突起；以及侧板，该侧板与滚动件分开地形成并且附接至滚动件的另一端。在JP 8-93855 A和JP 8-93854 A中描述的每个滚动体均具有所谓的H形截面。滚动体被容纳在形成于旋转体中的导向孔中。位于旋转体的径向方向上的外侧上的导向孔的内表面的一部分用作导向面，并且上述环形凹槽的底部部分接触导向面。旋转体的一部分被保持在环形凹槽中，即，在突起与侧板之间，正如上所述。以这种方式，滚动体在轴向方向上的移位受到限制。此外，日本专利申请公开No.2013-185598(JP 2013-185598 A)描述了这样一种滚动体，其中，与上述环形凹槽的内侧表面对应的表面形成为锥面。

发明内容

在JP 8-93855 A中描述的构造中，滚动体的形成环形凹槽的内侧表面中的任一个可能接触旋转体的侧表面，并且减震特性可能由于这些表面之间的摩擦而退化。这是因为，如果在滚动体沿着导向面往复运动的状态下在旋转体的轴向方向上的力作用在滚动体上，则滚动体在上述方向上移动，并且滚动体的内侧表面中的任一个可能与旋转体的侧表面接触。这种情况也出现在JP 8-93854 A中描述的装置中。

应该注意的是，在JP 2013-185598 A中，环形凹槽的内侧表面形成为锥面。由此，当形成在旋转体中的导向面与锥面接触时，与作用在滚动体上的离心力和锥度角对应的轴向力作用在滚动体上。以这种方式，环形凹槽的内侧表面与旋转体的侧表面分开。在滚动体的右锥面和左锥面中的每个锥面中产生这种轴向力。由此，当滚动体一旦移位至轴向方向上的一侧时，滚动体通过上述轴向力被推回到轴向方向上的另一侧，使另一锥面与导向面接触，并且再次产生上述轴向力。换言之，右轴向力和左轴向力交替地作用在滚动体上。因此，滚动体在左右方向上重复地进行往复运动，并由此可能发生共振。

本发明提供了一种扭转振动降低装置，该扭转振动降低装置能够抑制滚动体在旋转体的轴向方向上的误差，并且也能够抑制滚动体在该轴向方向上的往复运动。

提供了根据本发明的一个方面的扭转振动降低装置。该扭转振动降低装置包括：旋转体，旋转体具有滚动室；以及滚动体，滚动体包括支撑轴部、第一凸缘部、第二凸缘部、第一角部以及第二角部。滚动室是在旋转体的厚度方向上延伸通过旋转体的通孔。支撑轴部被容纳在旋转体的滚动室中。而且，在支撑轴部的轴向方向上的长度比旋转体的厚度长。第一凸缘部和第二凸缘部中的每个均具有比支撑轴部的外径大的外径。此外，第一凸缘部位于支撑轴部在轴向方向上的一个端处，并且第二凸缘部位于支撑轴部在轴向方向上的另一端处。由支撑轴部和第一凸缘部限定的位置是第一角部，并且由支撑轴部和第二凸缘部限定的位置是第二角部。在旋转体的沿着支撑轴部的中心轴线的截面中，第一角部和第二角部的截面形状彼此不同。

基于根据上述方面的扭转振动降低装置，当第一角部和第二角部中的一个角部与旋转体接触时，在与旋转体的轴向方向平行的方向上的轴向力作用在滚动体上。该轴向力根据作用在滚动体上的离心力和每个角部的形状而被限定。与旋转体接触的角部通过轴向力与旋转体分开，并且使另一角部与旋转体接触。正如描述的，在滚动体的第一角部和第二角部中的每个角部中产生上述轴向力。由于第一角部和第二角部的形状彼此不同，所以第一角部和第二角部中的轴向力的大小彼此不同。因此，即使在旋转体由于上述轴向力而在旋转体的轴向方向上进行往复运动时，该往复运动也不太可能以恒定的周期重复，并由此可抑制滚动体发生共振。因此，滚动体沿着滚动表面的往复运动不被滚动体在轴向方向上的强烈振动阻碍。因此，增强了振动控制效率。此外，能够抑制由于滚动体与旋转体的强烈振动的出现所导致的大噪音或振动的产生。而且，与滚动体通过较大轴向力而移位的情况相比，在滚动体通过较小轴向力而移位的情况中，在轴向方向上的滑动不太可能出现在滚动表面上。由此，不太可能产生不必要的摩擦。因此，可以改进根据本发明的装置的耐用性。