[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案的形成方法有效

专利信息
申请号: 201580021424.9 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN106233207B 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 境田康志;西田登喜雄;藤谷德昌;坂本力丸 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 黄媛;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 抗蚀剂 下层 形成 组合 以及 使用 图案 方法
【权利要求书】:
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