[发明专利]气蚀减少的互作用腔

权利要求书

1.一种互作用腔，其用于流体处理器或流体均化器、优选高剪切处理器或高压均化器，所述互作用腔包括：

入口腔，其优选为入口缸，所述入口腔具有入口孔和底端；

出口腔，其优选为出口缸，所述出口腔具有出口孔和顶端；

微通道，其将所述入口孔与所述出口孔流体连通，其中，从所述入口腔到所述微通道的进口偏离于所述入口腔的底端一段距离；以及

下列项中的至少一者：(i)至少一个锥形倒角，其在微通道进口处位于所述微通道的至少一个侧壁上；(ii)所述微通道的至少一个侧壁，其从所述入口腔向内会聚到所述出口腔；(iii)所述微通道的顶壁和底壁中的至少一者，其从所述入口腔到所述出口腔成角度；和(iv)顶部倒角，其围绕所述入口腔的直径延伸。

2.根据权利要求1所述的互作用腔，其为H型互作用腔、Y型互作用腔、Z型互作用腔和HIJ型互作用腔中的至少一者。

3.根据权利要求1或2所述的互作用腔，其中，从所述微通道到所述出口腔的排出口构造成下列项中的至少一者：(i)偏离于所述出口腔的顶端一段距离；以及(ii)包括至少一个第二锥形倒角。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的互作用腔，其中，所述微通道进口与所述入口腔的底端之间的距离在0.001至1英寸、优选0.01至0.03英寸的范围内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的互作用腔，其中，所述至少一个锥形倒角构造成下列项中的至少一者：(i)为圆倒角；以及(ii)在所述微通道进口处位于所述微通道的多个侧面上。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的互作用腔，其中，下列项中的至少一者：(i)两个侧壁从所述入口腔向所述出口腔会聚；以及(ii)所述顶壁和所述底壁两者均从所述入口腔向所述出口腔会聚。

7.一种多槽式互作用腔，其用于流体处理器或流体均化器、优选高剪切处理器或高压均化器，所述多槽式互作用腔包括：

入口腔，其优选为入口缸，所述入口腔具有入口孔和底端；

入口室，其与所述入口孔流体连通；

出口腔，其优选为出口缸，所述出口腔具有出口孔和顶端；

出口室，其与所述出口孔流体连通；以及

多个微通道，其将所述入口室连接到所述出口室并且从而将所述入口孔与所述出口孔流体连接，所述多个微通道中的每一者包括微通道进口，所述微通道进口偏离于所述入口腔的所述底端一段距离，

其中，下列项中的至少一者：(i)所述入口室的宽度小于所述入口腔的直径；以及(ii)所述入口室的高度打断所述入口腔的直径。

8.根据权利要求7所述的互作用腔，其为H型互作用腔、Y型互作用腔、Z型互作用腔和HIJ型互作用腔中的至少一者。

9.根据权利要求7或8所述的多槽式互作用腔，其中，下列项中的至少一者：(i)所述出口室的宽度小于所述出口腔的直径并且所述出口室的高度打断所述出口腔；(ii)所述至少一个微通道偏离于所述出口腔的顶端一段距离；以及(iii)所述入口室与所述入口腔共用所述底端。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的多槽式互作用腔，其包括位于所述微通道进口中的一者处的至少一个锥形倒角。

11.根据权利要求10所述的多槽式互作用腔，其中，所述至少一个锥形倒角在所述微通道进口处位于所述微通道的多个侧面上。

12.一种互作用腔，其用于流体处理器或流体均化器、优选高剪切处理器或高压均化器，所述互作用腔包括：

入口腔，其优选为入口缸，所述入口腔具有入口孔和底端；

出口腔，其优选为出口缸，所述出口腔具有出口孔和顶端；

微通道，其将所述入口孔与所述出口孔流体连通；以及

用于在流体从所述入口腔进入所述微通道时减少气蚀的装置。

13.根据权利要求12所述的互作用腔，其包括用于在流体离开所述微通道到达所述出口腔时减少气蚀的装置。

14.根据权利要求12或13所述的互作用腔，其中，用于在流体从所述入口腔进入所述微通道时减少气蚀的装置包括下列项中的至少一者：(i)锥形倒角；(ii)所述底端和所述入口孔之间的偏移距离；(iii)从所述入口腔到所述出口腔会聚的微通道壁；以及(iv)围绕所述入口腔的直径延伸的倒角。