[发明专利]多孔二氧化硅系粒子、其制造方法及配合其的化妆料有效
| 申请号： | 201580031859.1 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106660812B | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 榎本直幸;渡边慧;三好康敬 | 申请（专利权）人： | 日挥触媒化成株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;A61K8/25;A61Q1/00;A61Q1/02;A61Q17/04;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人： | 王玉玲,李雪春 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多孔 二氧化硅 粒子 制造 方法 配合 化妆 | ||
【权利要求书】：
1.一种多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，其是由二氧化硅系微粒构成的多孔二氧化硅系粒子，其平均粒径d1为0.5～25μm，利用BET法求得的比表面积为5～60m2/cm3，微孔容积为0.35～2.0ml/g，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布中的最小微孔径D0为25～500nm的范围，最大微孔径D100为300～8000nm的范围，最大微孔径D100与最小微孔径D0之比D100/D0为4～320的范围，所述微孔径分布中，X轴为微孔径，Y轴为以微孔径对微孔容积进行微分得到的值。
2.根据权利要求1所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子的微孔径分布中的最频微孔径Dm为100nm＜Dm＜4000nm。
3.根据权利要求1所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述多孔二氧化硅系粒子以10～50重量％的范围含有无机氧化物微粒，所述无机氧化物微粒包含氧化钛、氧化铁及氧化锌中的至少一者。
4.根据权利要求1所述的多孔二氧化硅系粒子，其特征在于，所述二氧化硅系微粒的平均粒径d2相对于所述多孔二氧化硅系粒子的平均粒径d1为0.01～0.30的范围。
5.一种化妆料，其特征在于，其配合有权利要求1所述的多孔二氧化硅系粒子。
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