[发明专利]光刻设备、对象定位系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 201580032779.8 | 申请日： | 2015-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN106462083B | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | P·德维特;Y·德沃斯;P·赫姆佩纽斯;N·科姆珀;R·M·G·里杰斯;F·范德梅尤伦;S·博伊瑞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 对象 定位 系统 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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