[发明专利]半导体激光装置有效

专利信息
申请号: 201580033757.3 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN106663915B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 吉田隆幸;王静波 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H01S5/024 分类号: H01S5/024;H01L23/473
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴秋明
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 激光 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体激光装置,具备:

导电性的冷却板,其在内部具有彼此独立的供水路径和排水路径;

绝缘片,其设置在所述冷却板之上,具有与所述供水路径连接的第1贯通孔和与所述排水路径连接的第2贯通孔;

导电性的第1冷却块,其设置在所述绝缘片之上,在内部具有与所述第1贯通孔以及所述第2贯通孔连接的第1管;和

第1半导体激光元件,其设置在所述第1冷却块之上,

所述第1半导体激光元件具有第1电极以及与所述第1电极相反一侧的第2电极,

所述第1电极与所述第1冷却块电连接,

所述冷却板处于浮动电位。

2.根据权利要求1所述的半导体激光装置,其中,

所述半导体激光装置还具备第1导电板,该第1导电板设置于所述第1电极与所述第1冷却块之间,对所述第1电极以及所述第1冷却块的热膨胀系数进行调整。

3.根据权利要求1所述的半导体激光装置,其中,

所述第1电极为正电极,所述第2电极为负电极。

4.根据权利要求1所述的半导体激光装置,其中,

在所述供水路径、所述排水路径和所述第1管中流动冷却水,

所述冷却水是导电率小于10μS/cm的离子交换水。

5.根据权利要求1所述的半导体激光装置,其中,

所述供水路径和所述排水路径在所述冷却板的外部,经由循环装置而连接。

6.根据权利要求1所述的半导体激光装置,其中,

所述冷却板的主要材料是不锈钢。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的半导体激光装置,其中,

所述第1冷却块的主要材料是铜。

8.根据权利要求1所述的半导体激光装置,其中,

所述半导体激光装置还具备:

导电性的第2冷却块,其设置在所述绝缘片之上;和

第2半导体激光元件,其设置在所述第2冷却块之上,

所述绝缘片具有与所述供水路径连接的第3贯通孔和与所述排水路径连接的第4贯通孔,

所述第2冷却块在内部具有与所述第3贯通孔以及所述第4贯通孔连接的第2管,

所述第2半导体激光元件具有第3电极以及与所述第3电极相反一侧的第4电极,

所述第3电极与所述第2冷却块电连接,

所述第2冷却块和所述第2电极电连接。

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