[发明专利]包含至少一种低聚物的含氟聚合物组合物

权利要求书

1.一种包含含氟聚合物与紫外光吸收低聚物的共混物的组合物，其中所述紫外光吸收低聚物包含：

包含悬垂紫外线吸收基团的第一二价单元；以及

由下式表示的第二二价单元：

其中

R¹为氢或甲基；并且

R²为具有1至4个碳原子的烷基，

并且其中满足下列限制中的至少一个：

所述紫外光吸收低聚物还包含第三二价单元，所述第三二价单元包含悬垂2,2,6,6-四甲基哌啶基基团；或者

所述组合物还包含第二低聚物，所述第二低聚物包含第三二价单元和至少一个所述第二二价单元，所述第三二价单元包含悬垂2,2,6,6-四甲基哌啶基基团，

其中所述悬垂2,2,6,6-四甲基哌啶基基团的氮与氢、烷基、氧基、烷氧基或烷酮相连。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物为挤塑薄膜。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述悬垂紫外线吸收基团包括三嗪、二苯酮或苯并三唑。

4.根据权利要求1所述的组合物，其中所述第一二价单元由下式表示：

其中

R¹独立地为氢或甲基；

V为O或NH；

X为键、亚烷基或亚烷氧基，其中所述亚烷基或亚烷氧基具有1至10个碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团取代；

R为具有一至四个碳原子的烷基；

n为0或1；并且

Z为任选地被烷基、卤素、芳基、烷氧基或羟基取代的苯甲酰基基团；4,6-二苯基[1,3,5]三嗪-2-基基团，其中每个苯基任选独立地被一个或多个烷基或烷氧基基团取代；或任选地被一个或多个卤素取代的2H-苯并三唑-2-基基团。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述第三二价单元由下式表示：

其中

R¹独立地为氢或甲基；

X为键、亚烷基或亚烷氧基，其中所述亚烷基或亚烷氧基具有1至10个碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团取代；

V为O或NH；并且

R³为氢、烷基、氧基、烷氧基或烷酮。

6.根据权利要求1所述的组合物，其中所述紫外光吸收低聚物或所述第二低聚物中的至少一个还包含由下式表示的第四二价单元：

其中

Rf表示任选地插入有一个-O-基团的具有1至8个碳原子的氟烷基基团，或者Rf表示多氟聚醚基团；

R¹独立地为氢或甲基；

Q为键、-SO₂-N(R⁵)-或-C(O)-N(R⁵)-，其中R⁵为具有1至4个碳原子的烷基或氢；并且

m为0至10的整数。

7.根据权利要求1所述的组合物，其中所述紫外光吸收低聚物包含所述第三二价单元。

8.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物包含所述第二低聚物。

9.根据权利要求1所述的组合物，其中所述紫外光吸收低聚物以基于所述组合物的总重量计1重量％至25重量％范围内的量处于所述组合物中。

10.根据权利要求1所述的组合物，其中在所述第二二价单元中，R¹和R²均为甲基。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的组合物，其中所述含氟聚合物以基于所述共混物的总重量计至少70重量％的量存在于所述共混物中。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的组合物，其中所述共混物还包含聚(甲基丙烯酸甲酯)。