[发明专利]阻挡膜、其制造方法和包含其的制品

权利要求书

1.一种阻挡膜，其包含：

衬底，其包含第一表面与第二表面；其中所述第一表面与所述第二表面彼此相对地安置；以及

阻挡涂层，其包含阳离子材料与阴离子材料的交替层；其中所述阻挡涂层与所述衬底的至少所述第一表面反应性地键结。

2.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述反应性键结包含离子键结或共价键结。

3.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阳离子材料包含天然衍生的阳离子聚合物；其中所述天然衍生的阳离子聚合物为壳聚糖。

4.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阳离子材料包含合成衍生的阳离子聚合物；其中所述合成衍生的阳离子聚合物为分支聚乙烯亚胺、线性聚乙烯亚胺、聚二烯丙基二甲基氯化铵、聚烯丙胺盐酸盐、聚-L-赖氨酸、聚(酰氨基胺)、聚(氨基-共-酯)、聚(2-N,N-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯)、聚(乙二醇-共-2-N,N-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯)、或包含前述合成衍生的阳离子聚合物中的至少一种的组合。

5.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阴离子材料包含阴离子聚合物；其中所述阴离子聚合物为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酰胺、聚(苯乙烯磺酸)、聚(乙烯基磷酸)、聚(乙烯基磺酸)、聚丙烯酸的盐、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酰胺、聚(苯乙烯磺酸)、聚(乙烯基磷酸)、聚(乙烯基磺酸)、或包含前述合成衍生的阳离子聚合物中的至少一种的组合。

6.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阴离子材料包含粘土；其中所述粘土为合成锂皂石、蒙脱石、皂石、贝得石、蛭石、绿脱石、锂皂石、含氟锂蒙脱土、或包含前述粘土中的至少一种的组合。

7.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中至少一种所述阳离子材料与阴离子材料交联。

8.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阻挡涂层包含双层结构；其中所述双层结构包含聚乙烯亚胺的阳离子材料层和蛭石的阴离子材料层。

9.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阻挡涂层包含四层结构；其中所述四层结构包含：与所述衬底接触的包含聚乙烯亚胺的第一阳离子材料层；与所述第一阳离子材料层接触的包含聚丙烯酸的第一阴离子材料层；与所述第一阴离子材料层接触的包含聚乙烯亚胺的第二阳离子材料层；以及包含蛭石或蒙脱石的第二阴离子材料层；其中所述第二阴离子材料层接触所述第二阳离子材料层。

10.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述衬底包含乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、所述乙烯-丙烯酸共聚物的无机盐、所述乙烯-甲基丙烯酸共聚物的无机盐、马来酸酐接枝聚乙烯、聚苯乙烯磺酸、苯乙烯丙烯酸共聚物、或包含前述衬底中的至少一种的组合。

11.一种制品，其包含根据权利要求1所述的组合物。

12.一种方法，其包含：

在衬底上安置包含阳离子材料与阴离子材料的交替层的阻挡涂层；其中所述阻挡涂层与所述衬底的至少一个表面反应性地键结。

13.根据权利要求12所述的方法，其进一步包含挤出所述衬底。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述安置包含浸涂、喷涂、刷涂、凹板印刷式涂布或其组合。