[发明专利]组合物、硬化膜、图案形成方法、彩色滤光器及其制造方法、固态摄影元件及图像显示装置有效

专利信息
申请号: 201580038646.1 申请日: 2015-08-12
公开(公告)号: CN106661342B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 金子祐士 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C09B67/46 分类号: C09B67/46;C08F12/28;C09B67/22;C09D7/63;C09D201/00;G02B5/20;G03F7/004;C09B5/24;C09B11/00;C09B11/12;C09B23/00;C09B29/09;C09B47/18
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 李艳;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 组合 硬化 图案 形成 方法 彩色 滤光 制造 固态 摄影 元件 以及 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种组合物,其包括:

三芳基甲烷化合物、在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素、以及硬化性化合物,且

所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素为酞菁化合物,

所述三芳基甲烷化合物与所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素的最大吸收波长的差为100nm~150nm,

所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素相对于所述三芳基甲烷化合物的质量比为0.5~0.8。

2.一种组合物,其包括:

三芳基甲烷化合物、在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素、以及硬化性化合物,且

所述三芳基甲烷化合物为多聚体,

所述三芳基甲烷化合物与所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素的最大吸收波长的差为100nm~150nm,

所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素相对于所述三芳基甲烷化合物的质量比为0.5~0.8。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述三芳基甲烷化合物在580nm~620nm的范围内具有最大吸收波长。

4.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述三芳基甲烷化合物具有乙烯性不饱和键性基。

5.根据权利要求1所述的组合物,其中所述三芳基甲烷化合物为多聚体。

6.根据权利要求2所述的组合物,其中所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素为选自酞菁化合物、花青化合物、方酸内鎓盐化合物、萘醌化合物及偶氮化合物中的一种以上。

7.根据权利要求2所述的组合物,其中所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素含有酞菁化合物或方酸内鎓盐化合物。

8.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素具有乙烯性不饱和键性基。

9.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述在650nm~750nm的范围内具有最大吸收波长的色素为多聚体。

10.根据权利要求1或2所述的组合物,其还包括在500nm~600nm的范围内具有最大吸收波长的色素。

11.根据权利要求1或2所述的组合物,其用于彩色滤光器。

12.一种硬化膜,其是使根据权利要求1至11中任一项所述的组合物硬化而形成。

13.一种图案形成方法,其包括:

将根据权利要求1至11中任一项所述的组合物应用于支撑体上来形成组合物层的步骤;

将所述组合物层曝光成图案状的步骤;以及

将经曝光的所述组合物层的未曝光部显影去除而形成着色图案的步骤。

14.一种彩色滤光器的制造方法,其包括根据权利要求13所述的图案形成方法。

15.一种彩色滤光器的制造方法,其包括:

将根据权利要求1至11中任一项所述的组合物应用于支撑体上来形成组合物层,并使其硬化而形成着色层的步骤;

在所述着色层上形成光致抗蚀剂层的步骤;

通过对所述光致抗蚀剂层进行曝光及显影来将所述光致抗蚀剂层加以图案化而获得抗蚀剂图案的步骤;以及

将所述抗蚀剂图案作为蚀刻掩模来对所述着色层进行干式蚀刻的步骤。

16.一种彩色滤光器,其使用根据权利要求1至11中任一项所述的组合物来制造、或者利用根据权利要求14或15所述的彩色滤光器的制造方法来制造。

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