[发明专利]氢氟酸蚀刻用树脂薄膜形成用组合物和氢氟酸蚀刻用树脂薄膜有效
| 申请号： | 201580041475.8 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN106661172B | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 佐藤哲夫 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08F299/06 | 分类号： | C08F299/06;C03C15/00;C08F290/06;C09D109/00;C09K13/08;G03F7/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氢氟酸 蚀刻 树脂 薄膜 形成 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种树脂薄膜在基板的氢氟酸蚀刻中的用途，其特征在于，所述树脂薄膜是使用树脂薄膜形成用组合物而制造的，所述组合物包含自由基聚合引发剂和具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物。
2.根据权利要求1所述的用途，其特征在于，所述具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物是借助氨基甲酸酯键而具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物。
3.一种具有图案的基板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：
使用权利要求1或2中定义的树脂薄膜形成用组合物在基板上形成氢氟酸蚀刻用树脂薄膜的工序；使该树脂薄膜固化的工序；以及，对形成有该树脂薄膜的基板进行蚀刻处理而图案化的工序。
4.一种树脂薄膜形成用组合物在形成氢氟酸蚀刻用树脂薄膜中的用途，其特征在于，所述组合物包含自由基聚合引发剂和具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物。
5.根据权利要求4所述的用途，其特征在于，所述具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物是借助氨基甲酸酯键而具有(甲基)丙烯酰基的氢化聚丁二烯化合物。
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