[发明专利]包括具有渐进改变的槽特性的衍射光栅的光学组件在审
申请号: | 201580041919.8 | 申请日: | 2015-07-24 |
公开(公告)号: | CN106662684A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | T·莱沃拉;L·赛尼米;P·萨里科 | 申请(专利权)人: | 微软技术许可有限责任公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B27/01 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 顾嘉运 |
地址: | 美国华*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 具有 渐进 改变 特性 衍射 光栅 光学 组件 | ||
1.一种用于在光学系统中使用的光学组件,其中所述光学组件具有外表面,并且衍射光栅由所述外表面的至少一部分中的一系列槽来形成,所述槽基本上彼此平行且其长度基本上大于其宽度;
其中所述衍射光栅在所述表面部分上的每个点处展现了至少第一和第二槽特性,这些特性都对入射在所述衍射光栅上的光在该点处被衍射的方式产生影响;
其中所述第一和第二槽特性在所述表面部分上渐进改变,以便渐进地改变所述入射光在所述表面部分上的不同的点处被衍射的方式,所述第一和第二槽特性随各自的梯度改变,所述梯度在所述表面部分上的至少一些点处是在彼此不同的方向中。
2.如权利要求1所述的光学组件,其特征在于,所述第一槽特性是下述项之一,而所述第二槽特性是下述项中的不同的一项:光栅倾斜、光栅深度和光栅线宽。
3.如权利要求1所述的光学组件,其特征在于,所述衍射光栅在每个点处展现出第三槽特性,所述第三槽特性也对入射在所述衍射光栅上的光在该点处被衍射的方式产生影响,并且其也在所述表面部分上渐进改变以便渐进改变所述入射光在所述表面部分上的不同的点处被衍射的方式。
4.如权利要求3所述的光学组件,其特征在于,所述第三槽特性随梯度而改变,所述梯度在所述表面部分上的至少一些点处是在与所述第一和第二特性不同的方向中。
5.如权利要求3所述的光学组件,其特征在于,所述第一、第二和第三特性中的一个是光栅倾斜,这些特性中的另一个是光栅深度,而这些特征的还有一个是光栅线宽。
6.一种用于在光学系统中使用的光学组件,其中所述光学组件具有外表面,并且衍射光栅由所述外表面的至少一部分的调制来形成;
其中所述衍射光栅在所述表面部分上的每个点处展现了至少第一和第二调制特性,所述调制特性都对入射在所述表面部分上的光在该点处被衍射的方式产生影响;以及
其中,所述第一和第二调制特性在所述表面部分上渐进地改变,以便渐进地改变所述入射光在所述表面部分上的不同的点处被衍射的方式,所述第一调制特性随在第一方向中的第一梯度而改变,所述第一方向在所述表面部分上基本上是不变的,而所述第二调制特性随在第二方向中的第二梯度而改变,所述第二方向在所述表面部分上基本上是不变的且不同于所述第一方向。
7.如权利要求6所述的光学组件,其特征在于,所述第一调制特性是下述项之一,而所述第二调制特性是下述项中的不同的一项:调制宽度、调制深度和调制倾斜。
8.如权利要求6所述的光学组件,其特征在于,所述衍射光栅在每个点处展现出第三调制特性,所述第三调制特性也对入射在所述衍射光栅上的光在该点处被衍射的方式产生影响,并且其也在所述表面部分上渐进改变以便渐进地改变所述入射光在所述表面部分上的不同点处被衍射的方式。
9.如权利要求8所述的光学组件,其特征在于,所述第三调制特性随第三方向中的梯度改变,所述第三方向在所述表面部分上基本上不变。
10.如权利要求8所述的光学组件,其特征在于,所述第三方向不同于所述第一和第二方向。
11.一种用于在光学系统中使用的光学组件,其中所述光学组件具有外表面,并且衍射光栅由所述外表面的至少一部分中的一系列槽来形成,所述槽基本上彼此平行且其长度基本上大于其宽度;
其中所述衍射光栅在所述表面部分上的每个点处展现了光栅深度和光栅倾斜,这两者都对入射在所述衍射光栅上的光在该点处被衍射的方式产生影响;以及
其中所述深度和/或倾斜在所述表面部分上渐进地改变,以便渐进地改变所述入射光在所述表面部分上的不同点处被衍射的方式。
12.如权利要求11所述的光学组件,其特征在于,所述衍射光栅在每个点处展现出光栅线宽,所述光栅线宽也对入射在所述衍射光栅上的光在该点处被衍射的方式产生影响,并且所述线宽也在所述表面部分上渐进改变以便渐进地改变所述入射光在所述表面部分上的不同点处被衍射的方式。
13.如权利要求12所述的光学组件,其特征在于,所述深度、倾斜和线宽都在所述表面部分上渐进改变。
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