[发明专利]剃须刀片涂层在审

专利信息
申请号: 201580044676.3 申请日: 2015-07-30
公开(公告)号: CN106794585A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 斯特吉奥斯·洛戈塞蒂迪斯;尼科劳斯·卡尔法吉安尼斯;康斯坦蒂诺斯·马弗罗伊迪斯;瓦西利斯·帕帕奇里斯托斯;米查利斯·卡劳西斯 申请(专利权)人: 比克-维尔莱克
主分类号: B26B21/60 分类号: B26B21/60;C23C14/06
代理公司: 上海天协和诚知识产权代理事务所31216 代理人: 张雅静
地址: 希腊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 剃须 刀片 涂层
【说明书】:

技术领域

发明涉及到剃须刀片。

背景技术

具体而言,本发明涉及到具有剃须刀刀刃的剃须刀片。

通过现有技术,已经提供了剃须刀片。将其放在剃须刀架中的适当位置,所述剃须刀片提供切削毛发的最终功能。

过去,剃须刀片已经设置有基质和强化涂层,所述强化涂层在刀刃处覆盖基质。强化涂层通常是含有金属和/或碳的材料,并且为剃须刀刀刃提供增强的强度,这样反过来又延长了其预期寿命。

有时,强化涂层进一步被润滑涂层覆盖,比如PTFE涂层。

在剃须刀刀刃上提供更好的涂层是一项挑战。首先,因为剃须刀片基质边缘的几何结构非常特殊,很难在其上面沉积涂层,并通过提高切削属性和强化剃须刀刀刃起到适当涂层的作用。

第二,因为剃须刀片是大量消费品,所以涂层必须以非常均匀的方式涂覆到各个产品上,而且其生产量必须很高(每天数百万件),这需要涂层与非常可靠的工艺协调一致。

第三,即使已经能够在剃须刀片上沉积一种新型涂层,但是衡量现有技术产品的改进也非常难。这是因为试验专业人员感知的剃须质量会是非常主观的。

因此,开发一种新型剃须刀片涂层需要多年研发工作。

然而,仍希望通过提供更好的剃须刀片涂层来改进剃须刀片。

WO2006/027,016描述了一种包含铬和碳的剃须刀片涂层。

其它现有技术的文件列出了据说适合剃须刀片涂层的无数材料清单。例如,这种文件的一个实例是EP1287953。从所提供的较长材料清单看,实际上可能并非所有材料都作为剃须刀片涂层成份进行了尝试,而且可能某些材料并不适合作为剃须刀片涂层成份。

在开发新型剃须刀片涂层时,一个目的是增加涂层材料的硬度。有很多材料可比铬碳混合物硬。在寻求比铬碳混合物硬的材料情况下,一种可能的候选物质是二硼化钛。

上述,除剃须刀片外,还有其它有涂敷的切削工具。这些切削工具有其自身的问题以及为了解决这些问题而设计的结构。例如,WO2007/136,777的目的是得到一种稳定的切削刃,该切削刃由多层涂层构成,在旋转工具的刀片两侧上有不同的结构。关于涂层本身,它包括覆盖底部多层粘合层金属陶瓷部分的特殊上端耐磨损、低摩擦、抗磨部分,所述底部多层粘合层金属陶瓷部分适应上端部分的内应力,并确保整个涂层系统的韧性最高。这是鉴于特殊切削用途的一种特殊涂层,在此提及作为手术器械或牙科器械的“剃须刀片”。

返回到剃须刀的刀片,出乎意外的是,在把含钛和硼的涂层沉积到剃须刀刀刃上的实验中,发明人遇到了具有用作剃须刀片涂层的卓越属性的涂层。

发明内容

本发明涉及到一种包括刀刃部分的剃须刀片,该剃须刀片包括:

剃须刀片基质,该剃须刀片基质在剃须刀片的刀刃部分具有基质边缘部分,所述基质边缘部分具有异形几何结构以及尖端细的几何结构,所述尖端细的几何结构是基质两个侧面朝基质尖端会合,

强化涂层,该强化涂层至少在刀刃部分处沉积在剃须刀片基质上,强化涂层覆盖基质尖端,强化涂层具有异形几何结构以及尖端细的几何结构,所述尖端细的几何结构是涂层两个侧面朝涂层尖端会合,

其中,强化涂层包括由钛硼混合物制成的强化纳米晶层,包括富钛区域(titanium-rich areas)与富硼区域(boron-rich areas)之中的至少一个区域,

在此,使用“富(rich)”这个字眼是参考化学计量的TiB2成份。

所述剃须刀片的硬度明显提高,而且可制造性使其能够满足剃须刀片涂层的其它要求:在(成本合理的)高工业生产产量下,可靠的均匀性特征。

“富钛”区域是指二硼化钛中钛的比例较高的区域。

“富硼”区域是指二硼化钛中硼的比例较高的区域。

在某些实施例中,还可以采用以下特征中的一项或多项:

强化层中硼原子与钛原子的平均比例介于1.3:1和2.3:1之间;

一种剃须刀片,其中,强化层中硼原子与钛原子的平均比例介于2.01:1和2.3:1之间;

强化层中硼原子与钛原子的平均比例介于1.3:1和1.99:1之间;

纳米晶层包括二硼化钛区域;

一种剃须刀片,其中,二硼化钛区域是非柱状的;

一种剃须刀片,其中,强化纳米晶层包括纳米晶的设置,其中,纳米晶体原子布置在六角晶格的结构中;

一种剃须刀片,其中,强化层包括无特征晶粒,其特性尺寸介于2和15纳米(nm)之间;

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