[发明专利]分散体的制备方法及其制备装置有效

专利信息
申请号: 201580045719.X 申请日: 2015-08-21
公开(公告)号: CN107073432B 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 胁坂昭弘;小原瞳;番户博友;上田香奈;幸西寿树;中居大贵 申请(专利权)人: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
主分类号: B01J19/08 分类号: B01J19/08;B01J13/00;B22F9/00;C08G18/00;C08G18/08;C08G69/28;C08J3/14;B22F9/24
代理公司: 11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 王达佐;洪欣<国际申请>=PCT/JP2
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 散体 制备 方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种分散体的制备方法,其用于制备第一物质和第二物质间的反应产物的分散体,所述方法包括以下步骤:

将所述第一物质溶解或分散于第一液体中并从喷嘴的喷雾口进行静电雾化,其中,所述喷嘴:

置于低介电常数液体相中,第二液体相和所述低介电常数液体相被布置成以两相分离的方式彼此重叠的状态;或者,

置于两相之外但接近所述低介电常数液体相的位置,使所述喷嘴的喷雾口朝向所述低介电常数液体相的液面,

将电极置于所述第二液体相中,并且将所述第二物质溶解或分散于所述第二液体和所述低介电常数液体的任一种当中,

将因所述喷嘴与所述电极之间产生的电位差而带电的、溶解有或分散有所述第一物质的所述第一液体的液滴,从所述喷嘴的喷雾口进行静电雾化,并且

被静电雾化的所述第一液体通过所述低介电常数液体相而到达所述第二液体相,由此获得分散于所述第二液体相或所述低介电常数液体相中的反应产物,其中

将所述第二物质溶解或分散于所述第二液体和所述低介电常数液体的所述第二液体中,

所述第一物质和所述第二物质中的一种是金属盐,

所述第一物质和所述第二物质中的另一种是还原剂,

将表面活性剂进一步溶解或分散于所述第二液体中,和

所述反应产物是分散于所述第二液体相中的金属纳米颗粒。

2.如权利要求1所述的分散体的制备方法,其中

所述第一液体和所述第二液体是彼此混溶的水溶液体系。

3.如权利要求1或2所述的分散体的制备方法,其中

通过调整所述低介电常数液体的类型、所述第一液体的表面张力、所述第一液体的离子强度、所述第一液体的相对介电常数、以及所述喷嘴与所述电极之间的电位差中的至少一种来控制液滴的大小。

4.如权利要求1或2所述的分散体的制备方法,其中

所述表面活性剂是非离子表面活性剂。

5.如权利要求3所述的分散体的制备方法,其中

所述表面活性剂是非离子表面活性剂。

6.一种分散体的制备装置,其用于制备第一物质和第二物质间的反应产物的分散体,所述装置包括:

容器,其储存第二液体相和低介电常数液体相,所述第二液体相和所述低介电常数液体相处于以两相分离的方式彼此重叠的状态;

具有喷雾口的喷嘴,其置于所述低介电常数液体相中,或者,置于两相之外但接近所述低介电常数液体相的位置,使所述喷嘴的喷雾口朝向所述低介电常数液体相的液面;以及

电极,其置于第二液体相中;并且

在所述装置中,所述第一物质溶解或分散于第一液体,且所述第二物质溶解或分散于所述第二液体和所述低介电常数液体中的任一种当中;以及

因所述喷嘴与所述电极之间产生的电位差而带电的、溶解有或分散有所述第一物质的所述第一液体的液滴,从所述喷嘴的喷雾口进行静电雾化,并且被静电雾化的所述第一液体通过所述低介电常数液体相而到达所述第二液体相,由此获得分散于所述第二液体相或所述低介电常数液体相中的反应产物,其中

将所述第二物质溶解或分散于所述第二液体和所述低介电常数液体的所述第二液体中,

所述第一物质和所述第二物质中的一种是金属盐,

所述第一物质和所述第二物质中的另一种是还原剂,

将表面活性剂进一步溶解或分散于所述第二液体中,和

所述反应产物是分散于所述第二液体相中的金属纳米颗粒。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立研究开发法人产业技术综合研究所,未经国立研究开发法人产业技术综合研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580045719.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top