[发明专利]激光光学装置和图像投影装置在审
申请号: | 201580046064.8 | 申请日: | 2015-09-07 |
公开(公告)号: | CN106605163A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 长岛贤治;野上豊史;伊东达也 | 申请(专利权)人: | 船井电机株式会社 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;G02B3/08;G02B5/04;G02B5/18;H04N5/74 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 光学 装置 图像 投影 | ||
1.一种激光光学装置,包括:
激光光源单元,所述激光光源单元从第一发射点射出第一激光并从与所述第一发射点不同的第二发射点射出第二激光;
偏转元件,所述偏转元件接收所述第一激光和所述第二激光,使所述第一激光和所述第二激光的光流当中的至少一个偏转,并且将所述光流作为第一射出光流和第二射出光流射出;和
准直透镜,所述准直透镜使从所述偏转元件射出的所述第一射出光流和所述第二射出光流成为平行光流;其中,
所述偏转元件使所述第一激光和所述第二激光的所述光流当中的至少一个偏转,使得在所述第一射出光流和所述第二射出光流的光轴之间形成的角度扩展为比所述第一激光和所述第二激光的光轴之间形成的角度更宽,并且所述第一射出光流的光源的虚像与所述第二射出光流的光源的虚像重叠,以及
所述偏转元件被布置为使得所述偏转元件和所述激光光源单元之间的距离不大于从下面的公式(1)解出的预定距离,
预定距离L1=D1/tan(θ1/2) (1)
这里,
D1:所述第一发射点和所述第二发射点之间的距离的半值,
θ1:所述光流的扩展角。
2.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,
所述偏转元件具有使所述第一激光和所述第二激光的光流当中的至少一个偏转的偏转表面,并且,
所述偏转表面布置在比所述第一激光的光流和所述第二激光的光流重叠的位置更靠近所述激光光源单元的位置。
3.根据权利要求1或2所述的激光光学装置,其中,所述第一发射点和所述第二发射点设置在相同的激光发射元件上。
4.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,
所述偏转元件是透射型的并且具有使所述第一激光和所述第二激光的光流当中的至少一个偏转的偏转表面,并且,
所述偏转表面设置在所述第一激光和所述第二激光入射的光入射表面侧。
5.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,
所述偏转元件是具有衍射所述第一激光的光流的第一衍射表面和衍射所述第二激光的光流的第二衍射表面的衍射光学元件,
所述第一衍射表面以根据所述第一激光的波长的间距沿作为所述第一激光和所述第二激光偏转的方向的第一方向形成,并且具有由沿着与所述第一方向正交的第二方向延伸的多个衍射沟槽构成的第一衍射沟槽部,且
所述第二衍射表面以根据所述第二激光的波长的间距沿所述第一方向形成,并且具有由沿着所述第二方向延伸的多个衍射沟槽构成的第二衍射沟槽部。
6.根据权利要求5所述的激光光学装置,其中,在所述第一衍射沟槽部和所述第二衍射沟槽部当中的至少一个中的所述多个衍射沟槽被构造成使得所述间距沿所述第一方向在不同位置处变化。
7.根据权利要求5或6所述的激光光学装置,其中,在所述第一衍射沟槽部和所述第二衍射沟槽部当中的至少一个中的所述多个衍射沟槽包括槽宽沿所述第二方向逐渐变化的衍射沟槽。
8.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,所述偏转元件是具有折射所述第一激光的光流的第一折射表面和折射所述第二激光的光流的第二折射表面的折射光学元件。
9.根据权利要求8所述的激光光学装置,其中,D1为30μm至150μm,且θ1为5度至40度。
10.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,所述偏转元件是具有反射所述第一激光的光流并将该光流作为所述第一射出光流而射出的第一反射表面和反射所述第二激光的光流并将该光流作为所述第二射出光流而射出的第二反射表面的反射光学元件。
11.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,所述光流的扩展角是比包括从所述第一发射点或所述第二发射点射出的激光的总光量的一半光量的激光的扩展角更大的角度。
12.根据权利要求1所述的激光光学装置,其中,
所述偏转元件具有:
将从所述第一发射点射出的激光引导到扫描反射镜的第一区域和
将从所述第二发射点射出的激光引导到所述扫描反射镜的第二区域,且
所述第一区域和所述第二区域由一条边界线隔开。
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