[发明专利]高高度喷墨打印有效

专利信息
申请号: 201580046212.6 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN106604822B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: D.W.巴尼特;S.H.巴斯;J.T.拉斯佩尔;C.门泽尔;M.奥布里 申请(专利权)人: 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司
主分类号: B41J2/04 分类号: B41J2/04;B41J2/145
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈钘
地址: 美国新罕*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 高度 喷墨 打印
【说明书】:

一种系统包括打印头,所述打印头包括形成在打印头的底部表面中的多个喷嘴。喷嘴构造为将液体喷出在基板上。所述系统包括气体流动模块,其构造为提供通过打印头的底部表面和基板之间的间隙的气体流动。气体流动模块可包括构造为将气体注射到间隙中的一个或多个气体喷嘴。气体流动模块可构造为将吸力施加至间隙。

优先权要求

本申请要求2015年1月20日提交的美国临时申请序列号62/105,413,2014年11月5日提交的美国临时申请序列号62/075,470,和2014年6月27日提交的美国临时申请序列号No.62/018,244的优先权,所述所有申请的内容通过参考在此被全部并入。

背景技术

喷墨打印可使用包括多个喷嘴的喷墨打印头执行。墨水被引入到喷墨打印头中,且当被激活时,喷嘴喷出墨水液滴以在基板上形成图像。在基板上方升高高度处的喷墨打印可用于在具有大的高度变化的基板上打印。

发明内容

在总的方面,一种系统包括打印头,所述打印头包括形成在打印头的底部表面中的多个喷嘴。喷嘴构造为将液体喷出在基板上。所述系统包括气体流动模块,其构造为沿与基板相对于打印头运动相对应的方向提供通过打印头底部表面和基板之间的间隙的气体流动。

实施例可包括一个或多个以下特征。

气体流动模块包括构造为将气体注射到间隙中的一个或多个气体喷嘴。在一些情况下,所述一个或多个气体流动喷嘴与喷嘴交错。在一些情况下,所述一个或多个气体流动喷嘴包括细长喷嘴。在一些情况下,细长喷嘴相对于与基板运动方向垂直的方向以约45-90°的角度布置或相对于喷嘴板以约0-45°的角度布置。在一些情况下,细长喷嘴的宽度在约1-8mm的范围内。在一些情况下,每一个细长喷嘴布置为大致平行于形成在打印头的底部表面中的一排喷嘴。在一些情况下,至少一个气体流动喷嘴包括多个孔。

气体流动模块是第一气体流动模块。所述系统包括第二气体流动模块。第一气体流动模块构造为沿第一方向提供通过间隙的气体流动,第二气体流动模块构造为沿与第一方向相反的第二方向提供通过间隙的气体流动模块。所述系统包括第一阀和第二阀,所述第一阀构造为允许第一气体流动模块提供通过间隙的气体流动;所述第二阀构造为允许第二气体流动模块提供通过间隙的气体流动;所述第一气体流动模块包括第一吸入模块,其定位在打印头的第一侧且构造为将吸力施加至间隙。第二气体流动模块包括第二吸入模块,其定位在打印头的与第一侧相对的第二侧且构造为将吸力施加至间隙。

气体流动模块定位为沿一方向提供气体流动,所述方向基本上与喷嘴将液体喷出到基板上所沿的方向相对应。

气体流动模块构造成为多个打印头中的每一个提供气体流动。

气体流动模块包括连接器,所述连接器构造为接收来自气体源的气体。

气体流动模块构造为提供低密度气体流动通过间隙。在一些情况下,所述低密度气体包括氦气。

气体流动模块定位在喷嘴的上游。

气体流动模块构造为将吸力施加至间隙。

气体流动模块定位在喷嘴的下游。在一些情况下,气体流动模块定位为使得通过气体流动模块的气体流动路径低于通过间隙的气体流动路径。在一些情况下,气体流动模块比打印头的底部表面宽。在一些情况下,间隙的侧向边缘沿打印头的至少一部分密封。

气体流动模块是定位在喷嘴上游的第一气体流动模块。所述系统包括定位在喷嘴下游的第二气体流动模块。

所述气体流动模块是构造为将气体喷射到间隙中的第一气体流动模块。所述系统包括第二气体流动模块,其构造为将吸力施加到间隙。

打印头底部表面和基板之间的间隙至少约3mm,比如至少约5mm。

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