[发明专利]容器、获得所述容器的方法以及使用这种容器来生产放射性同位素的靶组件

权利要求书

1.一种用于通过照射前体材料来生产放射性同位素的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述容器由整体构造的金属护套构成，所述护套的壁具有薄部分(130)，所述薄部分的厚度包括在5μm与100μm之间，所述护套的壁的剩余部分具有大于100μm的厚度。

2.如权利要求1所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、909、910)，其特征在于，所述护套具有回转对称性，所述薄部分沿所述护套的高度的一部分延伸。

3.如权利要求1或2所述的容器(100、901、902、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述容器包括具有圆锥形形状的至少一个端，所述至少一个端的基底取向朝向所述容器的外部。

4.如权利要求1或2所述的容器(100、901、903、904、905、907、908、909、910)，其特征在于，所述护套的一端是封闭的。

5.如权利要求3所述的容器(100、901、903、904、905、907、908、909、910)，其特征在于，所述护套的一端是封闭的。

6.如权利要求1、2或5所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述薄部分具有包括在4mm与100mm之间的外径。

7.如权利要求3所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述薄部分具有包括在4mm与100mm之间的外径。

8.如权利要求4所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述薄部分具有包括在4mm与100mm之间的外径。

9.如权利要求1-2、5和7-8中任一项所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述容器至少部分地由选自镍、钛、铌、钽、铁、铬、钴和不锈钢中的至少一种金属制成。

10.如权利要求3所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述容器至少部分地由选自镍、钛、铌、钽、铁、铬、钴和不锈钢中的至少一种金属制成。

11.如权利要求4所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述容器至少部分地由选自镍、钛、铌、钽、铁、铬、钴和不锈钢中的至少一种金属制成。

12.如权利要求6所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)，其特征在于，所述容器至少部分地由选自镍、钛、铌、钽、铁、铬、钴和不锈钢中的至少一种金属制成。

13.一种用于获得如权利要求1至12中任一项所述的容器(100、901、902、903、904、905、906、907、908、909、910)的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

-提供基体；

-在所述基体上电沉积出一定金属材料的厚度，直到获得包括在5μm与100μm之间的第一厚度；

-掩蔽所述基体的表面的一部分；

-在未掩蔽区段进行电沉积直到获得大于100μm的厚度；

-移除所述基体。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，通过溶解来移除所述基体。