[发明专利]固化性组合物有效
申请号: | 201580047519.8 | 申请日: | 2015-08-25 |
公开(公告)号: | CN106604937B | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 城内公之 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C08F2/44 | 分类号: | C08F2/44;B82Y30/00;C08F2/50;C08F291/00;C08F292/00;G03F7/004;H01L21/027 |
代理公司: | 31300 上海华诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 汤国华 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固化 组合 | ||
以往的固化性组合物通过光刻法形成固化图案时,有显影后的固化图案的残膜率较低的问题。残膜率是下式(z)所示的值。残膜率(%)=Td/Te×100 (z)[式(z)中,Td表示固化图案的膜厚,Te表示光照射后的组合物层的膜厚。]固化性组合物含有量子点、聚合引发剂、聚合性化合物及硫醇化合物。所述硫醇化合物是分子内具有2个以上巯基的硫醇化合物。
技术领域
本发明涉及含量子点的固化性组合物以及显示装置。
背景技术
专利文献1中记载了半导体超微粒(量子点)、溶剂以及可聚合单体构成的固化性组合物。
先行技术文献
专利文献
【专利文献1】特开平10-186426号公报
发明内容
发明所要解决的技术课题
由专利文献1中记载的固化性组合物,通过光刻法形成固化图案时,存在显影后的固化图案的残膜率低的问题。此处的固化图案是基板的一部分上形成了固化膜者。此外,残膜率是指下式(z)所示的值。
残膜率(%)=Td/Te×100 (z)
[式(z)中,Td表示固化图案的膜厚,Te表示光照射后的组合物层的膜厚。]
解决课题的技术手段
本发明包含以下的发明。
[1]一种固化性组合物,其含有量子点、聚合引发剂、聚合性化合物及硫醇化合物。
[2]根据[1]中记载的固化性组合物,硫醇化合物是分子内具有2个以上巯基的硫醇化合物。
[3]根据[1]或[2]中记载的固化性组合物,其中,量子点包含从IIB族元素与ⅥA族元素的化合物、ⅢA族元素与VA族元素的化合物、以及ⅣA族元素与ⅥA族元素的化合物形成的群中选择的至少一种。
[4]根据[1]~[3]的任一项中记载的固化性组合物,其中,进一步地含有树脂。
[5]由[1]~[4]的任一项中记载的固化性组合物所形成的固化膜。
[6]含有[5]中记载的固化膜的显示装置。
发明效果
根据本发明的固化性组合物,显影时能够以较高残膜率得到固化图案,而且该固化图案发光时的量子产率优异。
具体实施方式
本发明的固化性组合物包含量子点(A)、聚合性化合物(B)、聚合引发剂(C)、以及硫醇化合物(D)。
<量子点(A)>
量子点为粒径1nm~100nm左右的半导体微粒,是利用半导体的带隙,吸收紫外线或可见光而发光的微粒。
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