[发明专利]用于使用铁磁材料调节磁场分布的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201580047831.7 申请日: 2015-08-28
公开(公告)号: CN106663948B 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: S·奈贾塔里;F·卡罗博兰特;R·茨恩;M-L·奇;郑胜宪 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: H02J5/00 分类号: H02J5/00;H02J7/02;H02J50/12
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;张曦
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 使用 材料 调节 磁场 分布 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于无线功率传送的设备,包括:

基本上平面的发射天线,被配置为生成磁场;

具有充电表面的衬垫,所述发射天线的至少一部分被设置在所述衬垫中;以及

具有形状和相对于所述发射天线的位置的铁磁材料,所述铁磁材料的所述形状或所述位置中的至少一项或者它们的组合被选择以修改所述充电表面处的所述磁场的分布,

其中所述铁磁材料的所述形状或所述位置中的至少一项或者它们的组合被选择以增大所述充电表面处的所述磁场的所述分布的均匀性。

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料的磁导率被选择以修改所述充电表面处的所述磁场的所述分布。

3.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料的所述形状或所述位置中的至少一项或者它们的组合被选择以修改所述充电表面处的所述磁场的所述分布,使得所述发射天线附近的所述充电表面处的磁场强度与远离所述发射天线的所述充电表面处的磁场强度之间的差异最小化。

4.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料的所述形状或所述位置中的至少一项或者它们的组合被选择以减小所述充电表面处的最大磁场强度值与最小磁场强度值之间的差异,以修改所述充电表面处的所述磁场的所述分布。

5.根据权利要求1所述的设备,其中所述发射天线的至少一部分被定位在所述铁磁材料与所述充电表面之间的平面上,并且其中所述铁磁材料被配置为减小与所述充电表面相对的方向上的所述磁场的强度。

6.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料的至少一部分被定位在所述发射天线与所述充电表面之间的平面上。

7.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料包括第一铁磁部分和第二铁磁部分,所述第一铁磁部分被定位在所述发射天线与所述充电表面之间的第一平面上,所述第二铁磁部分被定位在所述发射天线和所述充电表面下方的第二平面上,所述发射天线被定位在所述第一铁磁部分与所述第二铁磁部分之间的第三平面上。

8.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料包括具有第一磁导率的第一铁磁部分和具有第二磁导率的第二铁磁部分,所述第一磁导率不同于所述第二磁导率。

9.根据权利要求1所述的设备,其中所述发射天线包括多个匝,并且其中所述铁磁材料被定位在所述多个匝之间。

10.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料包括一个或多个孔。

11.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料的厚度是不均匀的。

12.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料的所述形状具有至少一个弯曲。

13.根据权利要求1所述的设备,其中所述铁磁材料与所述充电表面被隔开以便在其间提供间隙。

14.一种用于无线功率传送的方法,包括:

在基本上平面的发射天线处生成磁场,所述发射天线的至少一部分被设置在衬垫中;以及

使用铁磁材料来修改所述衬垫的充电表面处的所述磁场的分布,所述铁磁材料具有形状并且相对于所述发射天线被定位,

其中修改所述磁场的所述分布包括:增大所述充电表面处的所述磁场的所述分布的均匀性。

15.根据权利要求14所述的方法,其中修改所述充电表面处的所述磁场的分布包括:选择所述铁磁材料的磁导率。

16.根据权利要求14所述的方法,其中修改所述磁场的所述分布包括:修改所述分布以使得所述发射天线附近的所述充电表面处的磁场强度与远离所述发射天线的所述充电表面处的磁场强度之间的差异最小化。

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