[发明专利]高纯度铜电解精炼用添加剂及高纯度铜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580048272.1 申请日: 2015-10-02
公开(公告)号: CN106715761B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 久保田贤治;樽谷圭荣;中矢清隆 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: C25C1/12 分类号: C25C1/12
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 纯度 电解 精炼 添加剂 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种高纯度铜电解精炼用添加剂,添加于高纯度铜的电解精炼中的铜电解液,所述高纯度铜电解精炼用添加剂的特征在于,由非离子性表面活性剂构成,所述非离子性表面活性剂具有含芳香族环的疏水基和含聚氧化烯基的亲水基,

所述非离子性表面活性剂由下述式[1]或式[2]表示,

所述式[1]及所述式[2]中,n表示加成摩尔数2~15。

2.一种高纯度铜的制造方法,向铜电解液添加权利要求1所述的高纯度铜电解精炼用添加剂,将所述高纯度铜电解精炼用添加剂的浓度维持在2~500mg/L的范围而进行铜电解。

3.根据权利要求2所述的高纯度铜的制造方法,其中,所述铜电解液为硫酸铜溶液、硝酸铜溶液或氯化铜溶液。

4.根据权利要求2所述的高纯度铜的制造方法,其中,所述铜电解液为硫酸浓度10~300g/L及铜浓度5~90g/L的硫酸铜溶液。

5.根据权利要求2所述的高纯度铜的制造方法,其中,所述铜电解液为硝酸浓度0.1~100g/L及铜浓度5~90g/L的硝酸铜溶液。

6.根据权利要求2~权利要求5中任一项所述的高纯度铜的制造方法,其中,制造硫浓度、银浓度均为1ppm以下的高纯度铜。

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