[发明专利]用于监测辐射源的装置、辐射源、监测辐射源的方法、器件制造方法

权利要求书

1.一种用于监测用于光刻设备的辐射源的装置，所述辐射源被配置成通过从燃料生成等离子体来产生辐射，所述装置包括：

一个或多个电容器，其中每个电容器包括至少两个导体，所述至少两个导体被安装成使得蒸气能够流过所述导体之间的间隙，其中所述间隙中的所述蒸气的浓度和由所述蒸气在所述间隙中形成的沉积物的量中的一项或两项对所述电容器的电容具有影响；和

测量系统，被配置成：通过测量所述一个或多个电容器中的至少一个电容器的电容或依赖于所述电容的参数，针对所述一个或多个电容器中的至少一个电容器，输出在所述电容器的所述间隙中的所述蒸气的浓度的测量和在所述电容器的所述间隙中的所述沉积物的量的测量中的一项或两项。

2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

控制器，被配置成使用由所述测量系统输出的所述蒸气的所述浓度的所述测量或所述沉积物的所述量的所述测量来控制所述辐射源的一个或多个操作参数。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述一个或多个操作参数包括被配置成将激光辐射传递至所述燃料以便创建所述等离子体的激光传递系统的操作参数。

4.根据权利要求2或3所述的装置，其中所述一个或多个操作参数包括燃料输送系统的操作参数，所述燃料输送系统被配置成生成待蒸发的所述燃料的流。

5.根据权利要求2至4中的任一项所述的装置，其中所述控制器被配置成控制所述一个或多个操作参数，使得当由所述测量系统测得的所述蒸气的所述浓度的所述测量下降到低于下阈值时，所述等离子体的生成速率被增加。

6.根据权利要求2至5中的任一项所述的装置，其中所述一个或多个操作参数包括气体输送系统的操作参数，所述气体输送系统被配置成提供用于从所述辐射源中去除蒸气的通过所述辐射源的气流。

7.根据权利要求2至6中的任一项所述的装置，其中所述控制器被配置成检测由所述测量系统测得的所述沉积物的所述量的所述测量何时上升到高于上阈值。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中

所述一个或多个电容器包括第一电容器和第二电容器，所述第一电容器和所述第二电容器中的每个电容器包括至少两个导体；

所述第一电容器的所述至少两个导体与所述第二电容器的所述至少两个导体不同地配置；以及

所述测量系统被配置成：使用来自所述第一电容器和所述第二电容器两者的测量，针对所述第一电容器和所述第二电容器中的任一个或两者，在由所述电容器的所述间隙中的蒸气的浓度引起的对所述电容器的所述电容的影响与由所述电容器的所述间隙中的由所述蒸气形成的沉积物的量引起的对所述电容器的所述电容的影响之间进行区分。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述一个或多个电容器包括具有两个导体的电容器和被配置成在所述导体之间提供相对运动以便使所述电容器的所述电容变化的运动机构。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述运动机构包括转动机构，所述转动机构被配置成在所述导体中的两个导体之间提供相对转动，以便使所述两个导体的彼此面对的表面区域的大小变化。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其中所述一个或多个电容器包括具有三个或更多导体的电容器，所述三个或更多导体被安装成使得所述蒸气能够流过多个间隙，所述多个间隙中的每个间隙设置在不同对的所述导体之间。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，进一步包括温度测量系统和加热系统中的一项或两项，所述温度测量系统被配置成测量所述电容器中的一个或多个电容器的温度，所述加热系统被配置成对所述电容器中的一个或多个施加加热。

13.一种辐射源，包括根据前述权利要求中的任一项所述的用于监测辐射源的装置。