[发明专利]真空处理装置

说明书

提供了一种能够简单地进行搭载装置的搬出搬入的真空处理装置。利用载于搭载车(40)的搭载装置(30)的行驶部(32)夹着轨道装置(10)的引导部(48)，以使搭载车(40)移动。使升降部(23)下降，使搭载装置(30)悬吊于轨道装置(10)的槽外部(16)，使搭载车(40)后退并从搭载装置(30)的正下方拔去升降部(23)及底盘(22)，通过连接状态的连接部(14)，悬吊于与槽外部(16)连接的槽内部(15)，使搭载装置(30)调动至真空槽(8)的内部，使连接部为分离状态并通过盖装置(9)密闭真空槽(8)。能够在狭小的场所进行搭载装置(30)的搬出搬入。

技术领域

本申请发明涉及真空装置的技术领域，特别地涉及将搭载了处理对象物体的搭载装置搬出搬入真空槽内部的技术。

背景技术

图23的符号101示出了现有技术的真空处理装置。

该真空处理装置101具有真空槽108，引导轨道115固定于真空槽108的顶板，且行驶轨道148固定于真空槽108的底板面上。

真空处理装置101真空处理的处理对象物体130多个配置在搭载装置132。在搭载装置132的底面设有行驶车轮135，在上部设有引导车轮103。搭载装置132以通过引导车轮103沿引导轨道115移动而被引导移动方向，且通过行驶车轮135在行驶轨道148上移动的方式构成。

多台搭载装置132在真空槽108的内部配置在行驶轨道148上，通过盖装置109来密闭真空槽108的开口，对真空槽108的内部进行真空排气，且对处理对象130进行真空处理。

若真空处理结束，则如图24、图25所示，使盖装置109移动而打开开口，通过连接用引导轨道114连接真空槽108内的引导轨道115、以及真空槽108外部的引导轨道113，通过引导轨道113～115来引导移动方向且使搭载装置132在行驶轨道148上移动，并从真空槽108的开口搬出。

此时，使在真空槽108的开口附近设置的升降机构142上升，使搭载装置132载于升降机构142，若使升降机构142下降，则搭载装置132的行驶车轮135与底板面105接触。在真空槽108的外部，通过引导轨道113引导移动方向，且使搭载装置132在行驶轨道138上或底板上行驶。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：WO2009/060805号公报；

专利文献2：日本特开2002-147023号公报；

专利文献3：日本特开2001-39667号公报。

发明内容

发明要解决的课题

在上述现有技术中，由于设置行驶轨道138、148和引导轨道113～115二者，故装置复杂。

另外，由于需要升降机构142，故成本高，为了使底板面105上的搭载装置132移动，需要大的力，为了使搭载装置乘降，需要大的空间。

本发明提供能够使用小面积的场所将搭载装置搬出搬入真空槽内的技术。

另外，在利用盖装置开闭真空槽时，防止搭载装置从行驶轨道脱落，或者变得无法移动的情况。

用于解决问题的方案