[发明专利]光学构件有效
申请号: | 201580049348.2 | 申请日: | 2015-07-09 |
公开(公告)号: | CN107076898B | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | 和田豊;村上亮介;佐藤武俊;长浜勉 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;B32B3/30;B32B7/023;G02B5/00;G02B5/08;G02B5/12;G02B5/26 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 构件 | ||
1.一种光学构件,其特征在于,
具有第一光学透明层、波长选择反射层和第二光学透明层,所述第一光学透明层具有凹凸形状且对可见光透明,所述波长选择反射层形成在所述第一光学透明层的所述凹凸形状上并选择性地反射红外的特定波长,所述第二光学透明层形成在所述波长选择反射层上,
所述波长选择反射层至少具有折射率为1.7以上的非晶质高折射率层、金属层、以及与所述第二光学透明层接触的折射率为1.7以上的晶质高折射率层。
2.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述晶质高折射率层的材质为金属氧化物和金属氮化物中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述非晶质高折射率层的材质为金属氧化物和金属氮化物的至少一种。
4.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述金属层的平均厚度为5nm~85nm。
5.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述金属层的平均厚度为5nm~60nm。
6.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述金属层的平均厚度为5nm~40nm。
7.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述金属层的平均厚度为5nm~25nm。
8.根据权利要求1所述的光学构件,其中,
所述第一光学透明层的凹凸形状由多个结构体的一维排列和二维排列中的任一种形成,所述结构体的形状为棱柱状、双凸透镜状、半球状以及角隅棱镜状中的任一种。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的光学构件,其中,
所述晶质高折射率层的材质为ZnO以及复合金属氧化物中的至少一种,
所述复合金属氧化物含有Al2O3和Ga2O3中的至少一种金属氧化物以及ZnO,所述复合金属氧化物中的所述金属氧化物相对于所述ZnO为6质量%以下。
10.根据权利要求1~8中任一项所述的光学构件,其中,
所述非晶质高折射率层的材质为:
含有In2O3和相对于所述In2O3为10质量%~40质量%的CeO2的复合金属氧化物;含有In2O3和相对于所述In2O3为3质量%~10质量%的SnO2的复合金属氧化物;含有ZnO和相对于所述ZnO为20质量%~40质量%的SnO2的复合金属氧化物;含有ZnO和相对于所述ZnO为10质量%~20质量%的TiO2的复合金属氧化物;In2O3;以及Nb2O5中的至少一种。
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