[发明专利]投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法有效

专利信息
申请号: 201580049768.0 申请日: 2015-09-07
公开(公告)号: CN107077074B 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: S.安德烈;D.戈尔德;T.格鲁纳;J.劳夫;N.瓦布拉;R.舍梅;S.施耐德 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 镜头 曝光 设备 euv 微光 方法
【权利要求书】:

1.一种投射镜头(PO),用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于所述投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至所述投射镜头的像平面(IS)中,所述投射镜头包含:

多个反射镜(M1-M6),其具有设置于所述物平面与所述像平面之间的投射射束路径中的反射镜表面,使得设置于所述物平面中的掩模(M)的图案通过所述反射镜可成像至所述像平面中,

其中在平行于扫描方向行进的第一方向上的第一成像比例的绝对值小于在垂直于该第一方向的第二方向上的第二成像比例的绝对值,

其特征在于校正由掩模母版位移所造成的像散波前像差部分的动态波前操纵系统。

2.如权利要求1的投射镜头,其特征在于:该动态波前操纵系统动态地配置,使得由掩模母版位移所造成的像散波前像差部分可在扫描操作过程中校正。

3.如权利要求1或2的投射镜头,其特征在于:该动态波前操纵系统具有第一操纵器,其具有设置于该投射射束路径中的可移位反射镜(M1-M6)和相对于参考位置可逆地改变该反射镜的位置的第一致动装置(DR1-DR6)。

4.如权利要求3项的投射镜头,其特征在于:该位移包含选自下列组的至少一个位移:

该反射镜的轴向位移,其平行于正交地定向至该物平面的参考轴(AX);

该反射镜的横向位移,其在垂直于正交地定向至该物平面的参考轴(AX)的横向方向上;

该反射镜的倾斜;

具有围绕旋转轴的反射自由形式表面的反射镜的旋转。

5.如权利要求3或4的投射镜头,其特征在于:该第一操纵器动态地设计为,使得该反射镜的位移在在一个方向上行进的扫描操作的开始与结束之间的时间间隔中,根据从起始位置经过至少一个中间位置返回该起始位置的可预定义移动路线进行。

6.如权利要求3至5中任一项的投射镜头,其特征在于:多个所述反射镜或所有所述反射镜(M1-M6)分别具有相对于参考位置可逆地改变该反射镜的位置的致动装置(DR1-DR6)。

7.如前述权利要求中任一项的投射镜头,其特征在于:该波前操纵系统具有第二操纵器,其具有设置于该投射射束路径中并具有反射镜表面(MS6)的可变形反射镜(M6)和用于相对于参考表面形状可逆像散地改变该反射镜表面的表面形状的致动装置(DR6′)。

8.如权利要求7的投射镜头,其特征在于:该投射镜头在该物平面与该像平面之间具有至少一个光瞳面(PF2),且可变形反射镜(M6)设置为光学地接近该光瞳面,其中具有该像散地可变形反射镜表面的该反射镜优选设置为使得在该反射镜表面处,子孔径比SAR在0.5至1之间、特别是在0.7至1的范围内。

9.如前述权利要求中任一项的投射镜头,其特征在于:该第一操纵器和/或该第二操纵器动态地设计为使得与该反射镜的光学效应的改变相关的致动移动,可在少于一秒的短时间尺度内、特别是在十分之一秒或数十分之一秒的范围内产生。

10.如前述权利要求中任一项的投射镜头,其特征在于:在具有较大绝对值的成像比例与具有较小绝对值的成像比例之间的尺度比在1.1至2.5的范围内、特别是在1.5至2的范围内。

11.如前述权利要求中任一项的投射镜头,其特征在于:该投射镜头在该第二方向上的前焦距就绝对值而言小于3m,其中所述前焦距优选小于2m、特别是小于1m。

12.如前述权利要求中任一项的投射镜头,其特征在于:该投射镜头设计用于成像在该扫描方向上弯曲的环场(RF)。

13.如权利要求12的投射镜头,其特征在于:该环场的曲率定尺寸使得在该像平面上,在该扫描方向上在后的场边缘处的中间场点与在该场边缘的边际处的边际场点之间在该扫描方向上所测量的距离,对应于垂直于该扫描方向所测量的场宽度的5%以上、优选为15%以上、特别是25%以上。

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