[发明专利]基于硅氧烷的涂层组合物和包含其的基于硅氧烷的剥离膜

权利要求书

1.一种基于硅氧烷的涂层组合物，包含：

基于硅氧烷的树脂；

基于硅氧烷的硬化剂；和

热引发剂，

其中所述基于硅氧烷的涂层组合物还包含以下化学式1的基于硅氧烷的化合物：

[化学式1]

m为1至1000的整数，

其中基于100重量份的所述基于硅氧烷的树脂，所述基于硅氧烷的涂层组合物包含1重量份至20重量份的量的所述基于硅氧烷的化合物。

2.根据权利要求1所述的基于硅氧烷的涂层组合物，其中所述基于硅氧烷的树脂为聚二甲基硅氧烷(PDMS)。

3.根据权利要求1所述的基于硅氧烷的涂层组合物，其中所述基于硅氧烷的硬化剂为氢硅烷。

4.根据权利要求1所述的基于硅氧烷的涂层组合物，其中基于100重量份的所述基于硅氧烷的树脂，所述基于硅氧烷的涂层组合物包含0.5重量份至5重量份的量的所述基于硅氧烷的硬化剂。

5.根据权利要求1所述的基于硅氧烷的涂层组合物，其中所述热引发剂为以下化学式2：

[化学式2]

HC≡C-R

R为CH₃。

6.根据权利要求1所述的基于硅氧烷的涂层组合物，其中所述基于硅氧烷的涂层组合物的总固含物的浓度为0.5重量％至10重量％。

7.一种基于硅氧烷的剥离膜，包括：

基层；和

涂层，其是包含选自权利要求1至6中的任一种的基于硅氧烷的涂层组合物的固化产物。

8.根据权利要求7所述的基于硅氧烷的剥离膜，其中所述涂层的接触角为90°至120°。

9.根据权利要求7所述的基于硅氧烷的剥离膜，其中所述涂层的表面能为15mN/m至35mN/m。

10.根据权利要求7所述的基于硅氧烷的剥离膜，其中所述涂层的厚度为50nm至200nm。

11.根据权利要求7所述的基于硅氧烷的剥离膜，其中所述基层的厚度为20μm至150μm。

12.根据权利要求7所述的基于硅氧烷的剥离膜，其中所述基层包含选自以下的一者：聚乙烯树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚醚醚酮、纸及其组合。