[发明专利]具有加热单元的立体光刻装置有效

专利信息
申请号: 201580050253.2 申请日: 2015-10-15
公开(公告)号: CN107077075B 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: J·艾伯特;R·格迈纳 申请(专利权)人: 义获嘉伟瓦登特公司;维也纳科技大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B29C67/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅
地址: 列支敦*** 国省代码: 列支敦士登;LI
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摘要:
搜索关键词: 具有 加热 单元 立体 光刻 装置
【权利要求书】:

1.一种立体光刻装置,其具有用于容纳自由流动的可光聚合材料的槽(2),所述槽具有至少位于用于曝光的曝光区域中的透明槽底部(3);曝光单元(8),所述曝光单元(8)布置在槽下方,用于曝光具有用于在各种情况下在曝光区域内待形成的层的预定轮廓的表面;在槽底部上方悬置在提升单元(6)上的构建平台(4),在构建平台(4)上通过曝光固化的第一层将悬置于其上形成;控制单元,所述控制单元被配置成通过所述曝光单元引起各具有预定轮廓的连续曝光,并且在每种情况下在另外的层曝光之后连续调整构建平台在槽底部上方的位置;并且具有用于加热所述槽中的可光聚合材料的加热单元,其特征在于,所述加热单元具有透明的导电层(33),其覆盖所述槽底部上方的至少曝光区域的整个区域,并且其在所述曝光区域的外部在所述层的相对侧上设置有在相对侧上延伸的电触点(20),所述电触点连接到受控电源,以能够通过流过该层的电流加热在所述曝光区域中的所述槽底部上的整个区域的可光聚合材料。

2.根据权利要求1所述的立体光刻装置,其特征在于,所述导电层(33)被施加到作为载体膜(35)的透明塑料膜,所述载体膜(35)又布置在槽底部上方。

3.根据权利要求1所述的立体光刻装置,其特征在于,所述槽底部通过透明塑料载体膜形成在曝光区域中,导电层位于透明塑料载体膜上。

4.根据权利要求1或2所述的立体光刻装置,其特征在于,首先在槽底部(3)上施加透明硅树脂层(32),在透明硅树脂层(32)上施加导电层(33),并且在导电层(33)上施加透明塑料保护膜(37),以覆盖导电层。

5.根据权利要求1或2所述的立体光刻装置,其特征在于,所述导电层(33)位于槽底部(3)之上,在导电层(33)上设置透明硅树脂层(32),透明硅树脂层(32)最终被布置在其上用于覆盖的塑料保护膜(37)覆盖。

6.根据权利要求1或2所述的立体光刻装置,其特征在于,温度传感器布置在与其导热接触的导电层(33)上,该传感器连接到控制器,该控制器配置成控制流过导电层的电流,使得在槽底部上方的导电层的区域中产生期望的温度或期望的时间-温度曲线。

7.根据权利要求2或3所述的立体光刻装置,其特征在于,由聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟乙烯(PTFE)或聚氟乙烯丙烯(FEP)制成的膜是用于导电层的塑料载体膜(35)。

8.根据权利要求4所述的立体光刻装置,其特征在于,塑料保护膜(37)是由聚四氟乙烯(PTFE)或聚氟乙烯丙烯(FEP)制成的膜。

9.根据权利要求5所述的立体光刻装置,其特征在于,塑料保护膜(37)是由聚四氟乙烯(PTFE)或聚氟乙烯丙烯(FEP)制成的膜。

10.根据权利要求1或2所述的立体光刻装置,其特征在于,所述导电层的材料具有氧化铟锡(ITO)、掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)、掺杂铝的氧化锡(ZnO2:Al)、氧化铝锌(AZO)、掺杂锑的氧化锡(SnO2:Sb)、石墨烯或其它导电碳化合物、导电聚合物或合适的金属化合物。

11.根据权利要求1或2所述的立体光刻装置,其特征在于,所述导电层被实施为使得其具有在1-1000Ω每单位平方面积范围内的薄层电阻。

12.根据权利要求1或2所述的立体光刻装置,其特征在于,在所述曝光区域外部的区域中的槽底部上也设置电加热单元。

13.根据权利要求12所述的立体光刻装置,其特征在于,所述导电层(33)延伸超过所述槽底部(3)上的曝光区域。

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