[发明专利]微光刻投射曝光装置的光学配置

权利要求书

1.一种微光刻投射曝光装置(10)的光学配置，其中该光学配置(40)包含：

(a)反射镜元件(M6)，具有反射镜基板(34)和形成于该反射镜基板(34)的表面上的反射区域；

(b)至少一个致动器(46)，配置为以至少一个自由度移动该反射镜元件(M6)；以及

(c)安装元件(42)，作用于该反射镜基板(34)，

其中该安装元件(42)至少约在平衡位置独自保持该反射镜元件(M6)，使得该至少一个致动器(46)在该平衡位置至少约为不受力；

其中在该反射镜元件(M6)的重心(S)作用的重力(G)的有效线(W_G)不与该反射区域(36)相交；以及

其中该安装元件(42)施加安装力(F)于该反射镜元件(M6)上，且其中该安装力(F)的有效线(W_F)与该重力(G)的有效线(W_G)重合，或者在该基板内与该重力(G)的有效线(W_G)相距一距离(B)，该距离小于纵向范围(L)的0.1倍，该纵向范围为该反射镜元件(M6)在关于该重力(G)的有效线(W_G)的所有正交平面中的最大纵向范围。

2.如权利要求1所述的光学配置，其中该反射镜基板(34)至少实质具有板的形状，且其中该重力(G)的有效线(W_G)位于与该反射区域(36)相距大于该板的最小厚度(D)的距离(A)处。

3.如权利要求1或2所述的光学配置，其中该反射镜基板(34)在该反射区域(36)承载反射涂层(37)。

4.一种微光刻投射曝光装置的镜头，包含如前述权利要求中任一项所述的光学配置(40)。

5.一种微光刻投射曝光装置的照明系统，包含如权利要求1至3中任一项所述的光学配置(40)。