[发明专利]柔性基底及其制造方法

说明书

技术领域

本公开涉及一种柔性基底及其制造方法。更具体地，本公开涉及一种具有高水平柔性、透明度和电导率的柔性基底以改善设置有所述柔性基底的柔性显示装置的质量和制造所述柔性基底的方法。

背景技术

显示装置市场经历了从阴极射线管(CRT)显示装置到平板显示器(FPD)的产品趋势的迅速变化。FPD的代表性示例有液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、有机发光二极管(OLED)显示装置等，这些平板显示器与CRT显示装置相比均更轻、更薄、且更易以更大尺寸制造。

最近，显示技术的发展正在从现有的平板显示器转到需要更高机械柔性的柔性显示器。期望未来的显示装置演变成可弯曲、可卷绕、可折叠和可伸缩的结构。为实现柔性显示器，显示器的全部组件需要是柔性的。具体地说，提高透明电极的机械柔性最为重要。

透明电极材料通常是具有80％或更高的可见光透射率且小于1000Ω/sq的片电阻的薄膜。目前最常用的典型透明电极材料是包括90％In₂O₃和10％SnO₂的氧化铟锡(ITO)。

ITO由于其诸如优异的电导率、优异的透光率和易于加工的特性而适用于平板显示器(FPD)。然而，当在柔性显示器中使用ITO时，ITO的差的机械柔性会导致问题。例如，在曲率(或弯曲)半径为10nm或以下的情况下，会形成裂纹，电导率会降低。

在现有技术中，用诸如金属网格和Ag纳米线的替代透明电极材料代替ITO以改善透明电极的柔性。然而，由于复杂的工艺及与现有显示工艺的兼容性，替代透明电极材料的应用是不容易的。因此，需要使用通过改善其机械柔性的ITO透明电极的解决方案。

[现有技术文献]

第10-2011-0135612号韩国专利申请公布(2011年12月19日)

发明内容

技术问题

因此，本公开是考虑到现有技术中出现的上述问题而做出的，本公开提出一种具有高水平柔性、透明度和电导率的柔性基底以改善设置有所述柔性基底的柔性显示装置的质量和制造所述柔性基底的方法。

技术方案

根据本公开的一方面，柔性基底可以包括：柔性基体；氧化铟锡薄膜，设置在柔性基体上；多个纳米颗粒，不连续地分布在氧化铟锡薄膜中。

氧化铟锡薄膜可以包含在其中的Al掺杂ZnO和In掺杂ZnO。

多个纳米颗粒可以由从SiO₂、TiO₂和Al₂O₃构成的组中选择的一种金属氧化物来形成。

纳米颗粒的表面可以从氧化铟锡薄膜的表面暴露以与氧化铟锡薄膜的表面齐平。

柔性基体可以由从薄玻璃片、金属薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和聚酰亚胺构成的组中选择的一种来形成。

柔性基体可被用作有机发光二极管装置的覆盖基底，氧化铟锡薄膜可被用作充当有机发光二极管装置的阳极的透明电极。

柔性基底还可以包括阻挡层，设置在有机发光二极管装置的有机发光层与氧化铟锡薄膜之间。

根据本发明的另一方面，提供了一种制造柔性基底的方法。所述方法可以包括：在柔性基体上不连续地形成多个纳米颗粒；在其上设置有多个纳米颗粒的柔性基体上沉积氧化铟锡薄膜；对在柔性基体上沉积的氧化铟锡薄膜的表面平坦化。

形成多个纳米颗粒的步骤可以包括：通过旋涂在柔性基体上设置多个纳米颗粒；在旋涂之后利用热或等离子体对多个纳米颗粒后处理。

在柔性基体上沉积氧化铟锡的步骤可以包括：通过溅射或旋涂在柔性基体上沉积氧化铟锡薄膜；利用热或等离子体对沉积的氧化铟锡薄膜后处理。

可以对在柔性基体上沉积的氧化铟锡薄膜的表面平坦化使得多个纳米颗粒的表面暴露于外部。

多个纳米颗粒可以由从SiO₂、TiO₂和Al₂O₃构成的组中选择的一种金属氧化物来形成。

有益效果

根据本公开，具有优异透明度和柔性的多个纳米颗粒不连续地设置在在基体上设置的透明薄膜内，从而使柔性基底具有高水平的柔性、透明度和电导率。