[发明专利]超小型质谱分析装置和超小型粒子加速装置有效
申请号: | 201580052565.7 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN107078020B | 公开(公告)日: | 2020-03-10 |
发明(设计)人: | 保坂俊 | 申请(专利权)人: | 保坂俊 |
主分类号: | H01J49/06 | 分类号: | H01J49/06;G01N27/62;H01J49/26;H05H5/03;H05H7/04;H05H7/22;H05H9/00;H05H13/04 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 翁若莹;徐俊 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超小型 谱分析 装置 粒子 加速 | ||
1.一种质谱分析装置,其特征在于,包含第1主基板、附着在第1主基板上面的第1上部基板、以及附着在第1主基板的下面的第1下部基板的多基板所组成的质谱分析装置,质谱分析室是被形成在第1主基板的,从第1主基板的上面贯通至第1主基板的下面的贯通室,其被称之为第1贯通室,第1贯通室在与第1主基板的基板面相垂直的Z方向上被第1上部基板和第1下部基板所围,与Z方向成直角方向,并且沿带电粒子的行进方向,其被称之为X方向,第1贯通室在沿X方向的两侧被第1主基板侧板所围,与Z方向和X方向成直角方向,其被称之为Y方向,第1贯通室在Y方向的两侧面被第1主基板所围,此外,在X方向,存在邻接于前记的第1贯通室的从第1主基板的上面贯通至第1主基板的下面的贯通室,其被称之为贯通室A,贯通室A和质谱分析室之间被第1主基板的隔壁所隔开,第1主基板的隔壁被称为第1主基板隔壁,在第1主基板隔壁的大致中央部位形成带电粒子通过孔,其被称之为中央孔,带电粒子从前记的贯通室A通过前记的中央孔,射入到质谱分析室作为特征的质谱分析装置,前记的质谱分析室是,磁场加载型,在形成前记的质谱分析室的第1主基板的上面附着了的第1上部基板的上侧和/或前记的第1主基板的下面附着了的第1下部基板的下侧被配置的电磁铁,由前记的电磁铁产生的与主基板面相垂直方向的磁场,改变了带电粒子的轨道做为特征。
2.如权利要求1所述的一种质谱分析装置,其特征在于,前记的磁场加载型质谱分析室的带电粒子的轨道是被对Z方向平行的第1主基板侧面所包围的扇形第1主基板的空间作为特征。
3.如权利要求1所述的一种质谱分析装置,其特征在于,从前记的质谱分析室出来的带电粒子在离子检出室被检出,前记的离子检出室是在第1主基板上形成的从第1主基板的上面贯通到第1主基板的下面的第1主基板的空间,质谱分析室和离子检出室之间被作为第1主基板的壁板的后方基板隔壁所隔开,在前记的后方基板隔壁的中央被配置了连接从前记质谱分析室到前记的离子检出室的中央孔,带电粒子通过前记的后方基板侧壁板的中央孔,从前记质谱分析室射入离子检出室作为特征。
4.如权利要求1所述的一种质谱分析装置,其特征在于,前记的质谱分析室是进一步附加了电场加载型质谱分析室的双重聚焦型,前记的电场加载型质谱分析室的带电粒子通过区域,是在第1主基板上形成,包含了第1主基板的上面被第1上部基板所围,第1主基板的下面被第1下部基板所围,对于Z方向被垂直的第1主基板侧面所围的扇形的第1主基板空间,其被称之为电场加载型贯通室,对于电场加载型贯通室的Z方向相垂直的带电粒子行进方向,被带有中央孔的基板隔壁所围,带电粒子从一边的基板隔壁的中央孔射入作为特征,在电场加载型贯通室中,带电粒子的轨道发生弯曲,从另一边的基板隔壁的中央孔射出作为特征,电场加载型贯通室的中心轨道半径为R0,中心角为α、在离中心轨道一定距离d0的对面的第1主基板两侧面上形成电极,在第1主基板两侧面上形成的电极被加载电压而产生的电场使带电粒子轨道发生弯曲作为特征。
5.如权利要求4所述的一种质谱分析装置,其特征在于,从前记的质谱分析室出来的带电粒子在离子检出室被检出,前记的离子检出室是在第1主基板上形成的从第1主基板的上面贯通到第1主基板的下面的第1主基板的空间,质谱分析室和离子检出室之间被作为第1主基板的壁板的后方基板隔壁所隔开,在前记的后方基板隔壁的中央被配置了连接从前记质谱分析室到前记的离子检出室的中央孔,带电粒子通过前记的后方基板侧壁板的中央孔,从前记质谱分析室射入离子检出室作为特征。
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