[发明专利]涡旋压缩机及使用了该涡旋压缩机的冷冻循环装置有效

专利信息
申请号: 201580052774.1 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN106795881B 公开(公告)日: 2018-07-31
发明(设计)人: 近野雅嗣;太田原优;中村聪;长谷川修士;中野泰典;坪野勇 申请(专利权)人: 日立江森自控空调有限公司
主分类号: F04C18/02 分类号: F04C18/02;F04C27/00;F04C29/00;F04C29/02;F04C29/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;金成哲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 涡旋 压缩机 使用 冷冻 循环 装置
【说明书】:

涡旋压缩机具备固定涡旋盘和回旋涡旋盘,使回旋涡旋盘回旋运动而形成吸入室及压缩室。另外,具备:第一空间,其形成于回旋涡旋盘的背面中心部,引导贮存在密闭容器底部的润滑油而成为与排出压力接近的压力;第二空间,其在回旋涡旋盘的背面设于比第一空间靠外周侧,成为排出压力与吸入压力之间的压力;使第一空间内的一部分油向第二空间漏出的第一油漏出路;将第一空间内的大部分油向密闭容器内的底部返回的返油通路;用于使第二空间内的油的一部分向吸入室漏出的第二油漏出路;以及第三油漏出路,其根据压缩室内的压力与第二空间内的压力之差,使第二空间内的油溢流到压缩室来调整第二空间内的压力。

技术领域

本发明涉及在冷冻循环中使用的涡旋压缩机及使用了该涡旋压缩机的冷冻循环装置,特别涉及一种涡旋压缩机,其具有:在回旋涡旋盘的背面中心部形成的成为与排出压力接近的压力的第一空间;以及在设置比该第一空间靠外周侧的成为排出压力与吸入压力之间的压力的第二空间。

背景技术

作为在冷冻用、空调用等的冷冻循环装置中使用的涡旋压缩机,具有日本特开2011-58439号公报(专利文献1)所记载的涡旋压缩机等。该专利文献1记载了一种涡旋压缩机,其构成为,具备:具有端板(台板、镶板)和在该端板所竖立设置的螺旋状的卷绕件的固定涡旋盘及回旋涡旋盘;使这些固定涡旋盘及回旋涡旋盘互相啮合而形成的压缩室;用于使上述回旋涡旋盘回旋运动的曲轴;设置在上述回旋涡旋盘的背面凸起部,用于以相对于上述曲轴的偏心销部能够在轴向上移动且旋转自如的方式支撑上述回旋涡旋盘的回旋轴承;设置为与上述回旋涡旋盘的背面侧对置的静止侧的框架;设于该框架并旋转自如地支撑上述曲轴的主轴承;对上述回旋涡旋盘背面侧与上述框架之间进行密封的密封部件;以及由该密封部件划分形成的内周侧的高压油压室和外周侧的背压室,向上述高压油压室供给与排出压力大致相等的压力的润滑油从而大致维持排出压力,上述背压室维持为比排出压力低的压力,在上述涡旋压缩机中,具备:供油单元,其在与上述密封部件对置的部分的回旋涡旋盘背面部或上述框架设置小孔,该小孔随着上述回旋涡旋盘的回旋运动而越过上述密封单元而向上述高压油压室侧和背压室侧双方交替开口,从而将高压油压室的油供给到背压室侧;以及供油路,其设于上述回旋涡旋盘或上述框架,连通上述高压油压室和背压室,因压差而将高压油压室的油供给到背压室侧。

另外,日本特开2005-163655号公报(专利文献2)记载了一种涡旋压缩机,其具备:具有端板(台板)和在此竖立设置的螺旋体(卷绕件)的非回旋涡旋盘(固定涡旋盘);具有端板(镶板)和在此竖立设置的螺旋体,并且与上述非回旋涡旋盘啮合而进行回旋运动,从而在与该非回旋涡旋盘之间形成吸入室或压缩室的回旋涡旋盘;用于对该回旋涡旋盘赋予向上述非回旋涡旋盘的按压力的背压室;为了维持该背压室的压力而用于使流体流入该背压室的背压室流体流入单元;用于使流入到上述背压室的流体流出到上述吸入室或压缩室的背压室流体流出单元等。

另外,该专利文献2记载了如下内容,上述背压室流体流出单元在接合上述背压室和上述吸入室或压缩室的背压室流体流出路中串联地配置有对前后的压差进行控制的背压控制阀、节流流路部、以及因上述回旋涡旋盘部件的回旋运动而间歇性地连通的间歇流路部。

而且,日本特开2012-92773号公报(专利文献3)记载的涡旋压缩机具有:具有镶板(台板)和在此所竖立设置的涡旋卷绕件的固定涡旋盘;具有镶板和竖立设置在其上的涡旋卷绕件,与上述固定涡旋盘啮合而进行回旋运动,从而在与上述固定涡旋盘之间形成压缩室的回旋涡旋盘;对上述回旋涡旋盘施加向上述固定涡旋盘的吸引力的背压室;以及向上述背压室导入压缩机排出侧的油的供油路,上述涡旋压缩机具备:压缩室连通路,其具备与上述背压室和封入开始后的上述压缩室连通,并且利用前后的压差进行开闭的背压阀,使背压室的油向压缩室流出来控制上述背压室的压力;以及吸入域连通路,其以连通上述背压室和直至上述压缩室的吸入区域,而不与封入开始后的上述压缩室连通的方式构成,向上述吸入区域供给上述背压室的油。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2011-58439号公报

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