[发明专利]光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580052846.2 申请日: 2015-07-02
公开(公告)号: CN106796317B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 福田真林;田中大直;西村涼 申请(专利权)人: 捷客斯能源株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14;G02B1/18;G02B5/18;G02F1/13363;H01L51/50;H05B33/02
代理公司: 11127 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 王涛;汤在彦<国际申请>=PCT/JP2
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 相位差 构件 具备 复合 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学相位差构件,其具备:

透明基体,其是由基板及设置于该基板上且表面具有凹凸图案的凹凸构造层构成;

被覆层,其被覆上述凹凸图案的凹部及凸部的表面;

间隙部,其划分于由上述被覆层所被覆的上述凹凸图案的凸部之间;及

密闭层,其以连结由上述被覆层所被覆的上述凹凸图案的凸部且密闭上述间隙部的方式设置于上述凹凸图案的上部,且

上述被覆层的折射率大于上述凹凸图案的上述凸部的折射率,

上述被覆层及上述密闭层是由相同材料形成,

上述间隙部具有超过上述凹凸构造层的上述凸部的高度的高度。

2.如权利要求1所述的光学相位差构件,其中,上述凹凸图案的上述凸部的剖面形状为梯形状。

3.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其中,上述被覆层是由金属、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、金属氮氧化物、或金属卤化物构成。

4.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其中,上述密闭层是由金属、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、金属氮氧化物、或金属卤化物构成。

5.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其中,构成上述凹凸图案的材料为光硬化性树脂或热硬化性树脂。

6.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其中,构成上述凹凸图案的材料为溶胶凝胶材料。

7.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其中,于上述间隙部存在空气。

8.如权利要求1或2所述的光学相位差构件,其进而具备保护构件,上述保护构件贴附于上述透明基体的形成有上述凹凸图案的面的相反侧的面及/或上述密闭层。

9.一种复合光学构件,其具备:

权利要求1至7中任一权利要求所述的光学相位差构件;及

光学构件,其贴附于上述透明基体的形成有上述凹凸图案的面的相反侧的面或上述密闭层。

10.如权利要求9所述的复合光学构件,其中,上述光学构件为偏光板。

11.一种显示装置,其具备:

权利要求9或10所述的复合光学构件;及

显示元件,其贴附于上述透明基体的形成有上述凹凸图案的面的相反侧的面或上述密闭层。

12.一种光学相位差构件的制造方法,其具有如下步骤:

准备由基板及设置于该基板上且表面具有凹凸图案的凹凸构造层构成的透明基体;

形成被覆上述凹凸图案的凹部及凸部的表面的被覆层;及

以连结由上述被覆层所被覆的上述凹凸图案的邻接的凸部且密闭划分于上述凸部间的间隙部的方式,于上述凹凸图案上形成密闭层,且

上述被覆层的折射率大于上述凹凸图案的上述凸部的折射率,

上述被覆层及上述密闭层是由相同材料形成,

上述间隙部具有超过上述凹凸构造层的上述凸部的高度的高度。

13.如权利要求12所述的光学相位差构件的制造方法,其中,于上述密闭层形成步骤中,通过溅镀、CVD、或蒸镀而形成上述密闭层。

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