[发明专利]用于减弱皱纹的美容方法在审

专利信息
申请号: 201580053035.4 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN107072932A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: A.格雷亚夫 申请(专利权)人: 莱雅公司
主分类号: A61K8/91 分类号: A61K8/91;A61K8/31;A61Q19/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 张萍,黄念
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 减弱 皱纹 美容 方法
【权利要求书】:

1.用于护理皮肤,更尤其面部皮肤,尤其具有皱纹的皮肤的美容方法,其包括:

(i)在于向所述皮肤施用组合物,尤其化妆品组合物的步骤,所述组合物在生理学上可接受的介质中包含(甲基)丙烯酸酯基团接枝的多糖聚合物和光活性化合物,

接下来的(ii)在于将皮肤暴露于光辐射下,优选持续至少5秒钟的步骤。

2.根据前述权利要求所述的方法,其特征在于所述接枝的多糖聚合物的接枝率为10%~80%,优选为40%~70%。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于所述接枝的多糖选自(甲基)丙烯酸酯接枝的透明质酸、(甲基)丙烯酸酯接枝的葡聚糖和(甲基)丙烯酸酯接枝的角叉菜胶。

4.根据前述权利要求之一所述的方法,其特征在于所述接枝的多糖聚合物选自丙烯酸酯基团接枝的透明质酸、甲基丙烯酸酯基团接枝的葡聚糖和丙烯酸酯基团接枝的角叉菜胶。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于所述接枝的多糖聚合物的重均分子量为5000~1000000道尔顿,优选为10000~500000道尔顿,优先为15000~350000道尔顿。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于所述接枝的多糖聚合物以下列含量存在于所述组合物中:相对于所述组合物的总重量计0.1重量%~10重量%,优选0.5重量%~10重量%活性材料,优先为1重量%~8重量%,且更优先为1重量%~6重量%。

7.根据前述权利要求之一所述的方法,其中所述光活性化合物选自式(I)、(II)、(III)或(IV)的化合物,及其有机或无机酸盐、其光学或几何异构体或互变异构体、及其溶剂合物例如水合物:

其中式(I)、(II)、(III)或(IV):

·R代表选自以下的基团:

i)任选取代的(C1-C10)烷基,其优选被一个或更多个选自以下的原子或基团任选取代:卤素;羟基;(C1-C10)烷氧基;包含5~10个环成员的(杂)环烷基,例如吗啉基;和氨基RaRbN-,其中Ra、Rb可以相同或不同,代表氢原子或(C1-C10)烷基,或者Ra和Rb与携带它们的氮原子一起形成杂环烷基,例如吗啉代;

ii)任选取代的(C1-C10)烷氧基,其优选被对于i)(C1-C10)烷基的相同取代基任选取代;

iii)羟基;

iv)任选取代的(杂)芳基,例如式(V)的任选取代的苯基,其中R'1、R'2、R'3可以相同或不同,如对于R1、R2、R3所定义,且代表与所述分子的其余部分结合的点;

v)任选取代的(杂)环烷基,其优选被羟基任选取代;

vi)R4-(X)n-C(X)-(X)n'-,其中R4代表任选取代的(C1-C10)烷基;任选取代的(杂)芳基,例如式(V)的任选取代的苯基;或任选取代的(杂)环烷基,n和n'可以相同或不同,为0或1;

vii)RcRdP(X)-,其中Rc代表任选取代的(C1-C10)烷基或任选取代的(杂)芳基,且Rd代表任选取代的(杂)芳基;

或者viii)R1和在处于邻位的C(X)-R基团中的R,或者R”和在处于邻位的R’-Y+-R”+-R”基团中的在处于邻位的R’-Y+-R”1中的R”1,与携带它们的原子一起形成与苯基稠合的(杂)环或与苯基稠合的(杂)芳基,其尤其在非方族部分上被一个或更多个氧代或硫羰基团任选取代;优选地,R1和在处于邻位的C(X)-R基团中的R与携带它们的原子以及所述稠合的苯基环一起形成蒽醌基团(VI):

·R1、R2或R3可以相同或不同,代表i)氢原子;ii)卤原子,例如氯;iii)任选取代的(C1-C10)烷基;iv)(C1-C10)烷氧基,其尤其被羟基任选取代;v)任选取代的(杂)芳基;vi)任选取代的(杂)环烷基;vii)羧基;viii)氰基;ix)硝基;x)亚硝基;xi)-S(O)p-OM,其中p等于1或2,M代表氢原子、碱金属或碱土金属;xii)R4R5N-;xiii)R4-(X)n-C(X)-(X)n’-其中R4、n和n’-,其中R4、n和n’如先前所定义,R5如对于R4所定义,或者R4和R5与携带它们的氮原子一起形成任选取代的杂环烷基或杂芳基,例如吗啉代,其可以相同或不同,等于0或1;xiv)羟基;或xv)巯基;

·R”1、R”2或R”3可以相同或不同,如对于R1、R2、R3所定义,优选选自氢原子或R4-Y–,其中R4如先前所定义,且优选为苯基;

·或者R和R1,其为邻接的,与携带它们的碳原子一起形成任选不饱和的且任选取代的(杂)环烃基,优选任选取代的环烃基,尤其被一个或更多个氧代基团任选取代和/或任选与芳基稠合,例如苯并;

·或者两个邻接的取代基R1、R2和/或R'1、R'2一起形成马来酸酐衍生基团,例如–C(X)-X-C(X)-;

·X可以相同或不同,代表氧或硫原子或NR5基团,其中R5如先前所定义,优选代表氢原子或(C1-C10)烷基;更尤其X代表氧原子;

·Y如对于X所定义,优选Y代表硫原子;

·金属代表过渡金属,例如铁或铬,优选铁,对于所述金属,有可能是阳离子,在该情况下,式(VII)的光活性化合物包含众多如下文所定义的阴离子抗衡离子An-,使得有可能实现所述分子的电中性;

·L和L’可以相同或不同,代表过渡金属配体,优选选自以下给电子体:C(X),其中X如先前所定义;氰基CN;(C1-C6)烯基;任选取代的(杂)芳基,例如联吡啶基;胺,例如胺R4R5R6N,其中R4和R5如先前所定义,且R6代表氢原子或对于R4所定义的基团;膦R4R5R6P,例如三(杂)芳基膦;(杂)环烃基,其优选为不饱和的,例如环戊二烯;碳烯,例如arduengo碳烯;

·q代表1~6的整数,包括端点,使得有可能实现金属络合物的稳定性,即,以致获得围绕该金属的电子数等于16或18个电子(也称为16-电子配位层或18-电子配位层);

·R'和R”可以相同或不同,代表任选取代的(杂)芳基;

·An-代表阴离子抗衡离子,其衍生自有机或无机酸的盐或卤化物;更尤其,所述阴离子抗衡离子选自i)卤离子,例如氯离子或溴离子;ii)硝酸根;iii)磺酸根,其中C1-C6烷基磺酸根:烷基-S(O)2O-,例如甲磺酸根和乙磺酸根;iv)芳基磺酸根:芳基-S(O)2O-,例如苯磺酸根和甲苯磺酸根;v)柠檬酸根;vi)琥珀酸根;vii)酒石酸根;viii)乳酸根;ix)烷基硫酸根:烷基-O-S(O)O-,例如甲基硫酸根和乙基硫酸根;x)芳基硫酸根:芳基-O-S(O)O-,例如苯硫酸根和甲苯硫酸根;xi)烷氧基硫酸根:烷基-O-S(O)2O-,例如甲氧基硫酸根和乙氧基硫酸根;xii)芳氧基硫酸根:芳基-O-S(O)2O-;xiii)磷酸根O=P(OH)2-O-O=P(O-)2-OH、O=P(O-)3、HO-[P(O)(O-)]w-P(O)(O-)2,其中w是整数;xiv)乙酸根;xv)三氟甲磺酸根;和xvi)硼酸根,例如四氟硼酸根;xvii)硫酸根(O=)2S(O-)2或SO42-和硫酸氢根HSO4-,优先地,An-选自(Hal)6P-或(Hal)6Sb-,其中Hal可以相同或不同,代表卤原子例如氟;和

·Ra、Rb、Rc或Rd可以相同或不同,代表氢原子或(C1-C10)烷基。

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