[发明专利]复合光催化剂的制造方法以及复合光催化剂有效

专利信息
申请号: 201580053680.6 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN106794459B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 秋山诚治;堂免一成 申请(专利权)人: 三菱化学株式会社;国立大学法人东京大学;人工光合成化学工艺技术研究组合
主分类号: B01J37/34 分类号: B01J37/34;B01J27/24;B01J35/02;C01B3/04
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 崔巍
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 复合 光催化剂 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种复合光催化剂的制造方法,是由多种光学半导体来制造复合光催化剂的方法,其特征在于,其具备对下述固液混合物照射微波,加热所述固液混合物的加热工序,所述固液混合物含有溶剂、助催化剂和所述多种光学半导体,或者含有溶剂、助催化剂源和所述多种光学半导体;所述复合光催化剂为在粒状光学半导体的表面担载助催化剂的复合光催化剂。

2.根据权利要求1所述的复合光催化剂的制造方法,在照射所述微波之前,所述固液混合物中的助催化剂源以溶解于所述溶剂中的状态存在。

3.根据权利要求1所述的复合光催化剂的制造方法,在照射所述微波之前,所述固液混合物中的所述助催化剂与所述光学半导体在所述溶剂中均作为固体存在,所述助催化剂呈担载于所述光学半导体的状态。

4.根据权利要求3所述的复合光催化剂的制造方法,作为所述加热工序的前置工序,具备以下工序:

将第1光学半导体以与溶解有所述助催化剂源的溶液接触的状态通过微波加热,由此在所述第1光学半导体上担载助催化剂的第1担载工序;

将第2光学半导体以与溶解有所述助催化剂源的溶液接触的状态通过微波加热,由此在所述第2光学半导体上担载助催化剂的第2担载工序;

将担载有所述助催化剂的所述第1光学半导体与担载有所述助催化剂的所述第2光学半导体包含于所述溶剂中,制成所述固液混合物的混合工序。

5.根据权利要求1所述的制造方法,所述多种光学半导体之中的至少一种是氧化物、氮化物、氮氧化物、硫族化合物或氧硫族化合物,所述氧化物、氮化物、氮氧化物、硫族化合物或氧硫族化合物含有选自Ti、V、Ga、Zn、Bi、Nb及Ta构成的群中的1种以上元素。

6.根据权利要求1所述的制造方法,所述多种光学半导体之中的至少一种是BaTaO2N、BaNbO2N、TaON、Ta3N5、LaTiO2N、BiVO4、GaN:ZnO或它们的部分取代物。

7.根据权利要求1所述的制造方法,所述助催化剂或所述助催化剂源含有Co或Co离子。

8.根据权利要求1所述的制造方法,所述溶剂是水、醇类或它们的混合溶剂。

9.根据权利要求1所述的复合光催化剂的制造方法,所述加热工序中,在封闭体系内照射微波对所述固液混合物进行加热。

10.根据权利要求4所述的复合光催化剂的制造方法,所述第1担载工序及所述第2担载工序中,在封闭体系内照射微波。

11.根据权利要求9所述的复合光催化剂的制造方法,所述封闭体系内的压力高于体系外的压力。

12.根据权利要求1所述的复合光催化剂的制造方法,作为所述加热工序的前置工序,具备以下工序:

使含有聚有机酸的至少一种以上有机酸的溶液,与氧化物、氮氧化物或氮化物的表面进行接触的有机酸接触工序,所述氧化物、氮氧化物或氮化物含有选自Ti、V、Ga、Ge、Nb、La及Ta的至少一种以上元素,以及

在所述有机酸接触工序之后,回收作为固体成分残留的氧化物、氮氧化物或氮化物的回收工序;

将回收的所述固体成分作为所述光学半导体使用。

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