[发明专利]电子束抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种进行平版印刷的方法，所述方法包括：

i)提供抗散射抗蚀剂涂覆的基底或将抗散射抗蚀剂涂层施加到基底；

ii)将所述抗散射抗蚀剂涂层的一部分暴露于辐射或聚焦束/靶向束以提供暴露的抗散射抗蚀剂涂层；

iii)显影所述暴露的抗散射抗蚀剂涂层以产生抗散射抗蚀剂图案层，所述抗散射抗蚀剂图案层包括：所述抗散射抗蚀剂涂层的显影剂不溶性涂层部分；以及延伸穿过所述抗散射抗蚀剂图案层的凹槽阵列；

iv)任选地改性在所述抗散射抗蚀剂图案层下面的所述基底、基底表面或其部分；

v)任选地除去所述抗散射抗蚀剂图案层以提供改性的基底；

vi)在所述改性的基底上，任选地重复一次或更多次步骤iv)和/或步骤i)-v)，任选地用可选择的抗蚀剂涂层；以及任选地在暴露期间使用可选择的辐射或聚焦束/靶向束；

其中所述抗散射抗蚀剂涂覆的基底是涂覆有抗散射抗蚀剂涂层的基底；

其中所述抗散射抗蚀剂涂层包含任选地干燥的和/或固化的抗散射抗蚀剂组合物；

其中所述抗散射抗蚀剂组合物包含抗散射化合物；其中所述抗散射化合物是多金属的金属-有机络合物，所述多金属的金属-有机络合物包括初级金属络合物，所述初级金属络合物是排除硼和硅物质的包括一种或更多种金属物质的金属络合物。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述抗散射化合物具有小于或等于1.3g/cm³的密度和大于或等于2000g/mol的分子量。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述初级金属络合物包括一种或更多种金属物质，所述金属物质中的至少一种是过渡金属物质。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述初级金属络合物包括两种或更多种不同的金属离子，所述两种或更多种不同的金属离子源自相同的金属元素并且具有不同的化合价，或源自不同的金属元素并且具有相同或不同的化合价。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述两种或更多种不同的金属离子具有不同的氧化态。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述初级金属络合物包括三价金属物质，和/或二价金属物质。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述初级金属络合物的所述金属物质中的至少一种是磁性的。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述抗散射化合物包括初级金属络合物PMC，其中所述初级金属络合物是多金属笼。

9.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其中所述初级金属络合物是异金属的，通过包括源自两种或更多种不同的金属元素的金属物质。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述初级金属络合物包括两种或更多种不同的金属物质，至少M¹和M²，分别源自两种或更多种不同的金属元素；并且所述初级金属络合物包括与M¹和M²中的一种或两种配位的一种或更多种配体，其中一种或更多种配体是提供所述初级金属络合物的两种或更多种金属物质之间的桥连的桥连配体。

11.如权利要求10所述的方法，其中M¹与M²的摩尔比在10:1和2:1之间。

12.如权利要求11所述的方法，其中M¹是Cr^III，并且M²是Ni^II。

13.如权利要求10所述的方法，其中所述初级金属络合物包括两种或更多种不同类型的配体的混合物，其中配体类型中的一种是双齿的，并且另一种是单齿的。