[发明专利]减少丙烯酸酯/盐/甲基丙烯酸酯/盐过程中聚合物的结垢和团聚

权利要求书

1.一种使烃成垢物分散或溶解在与用于制备丙烯酸酯/盐、甲基丙烯酸或甲基丙烯酸酯/盐单体的加工设备接触的过程流体中的方法，所述方法包括使所述烃成垢物与有效量的有机溶剂接触，所述有机溶剂包括邻苯二甲酸烷基酯、邻苯二甲酸烷芳基酯、邻苯二甲酸芳基酯、邻苯二甲酸或其组合，其中所述过程流体包括废酸流，并且将所述有机溶剂连续地或间歇地添加到所述过程流体中，使得所述烃成垢物不从所述废酸流中沉淀出来并且所述烃成垢物不沉积在所述加工设备上。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述加工设备用于制备甲基丙烯酸或甲基丙烯酸甲酯。

3.根据权利要求2所述的方法，其中用于制备甲基丙烯酸或甲基丙烯酸甲酯的所述加工设备适用于丙酮氰醇过程。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述过程流体包括硫酸、硫酸的铵盐或其组合。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述过程流体包括丙烯酸酯/盐、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸酯/盐或其组合。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述过程流体包括甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯或其组合。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述烃成垢物包括丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯/盐、甲基丙烯酸酯/盐、甲基丙烯酰胺、或其组合的低聚物或高聚物。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述烃成垢物包括甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酰胺、或其组合的低聚物或高聚物。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述有机溶剂包括式1的结构

其中R₁和R₂独立地为氢、烷基、烷芳基或芳基。

10.根据权利要求9所述的方法，其中R₁和R₂独立地为氢和C₁至C₁₂烷基。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述有机溶剂包括邻苯二甲酸、邻苯二甲酸单甲酯、邻苯二甲酸单乙酯、邻苯二甲酸单壬酯、邻苯二甲酸单十二烷基酯、邻苯二甲酸单十一烷基酯、邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二壬酯、邻苯二甲酸双十二烷基酯、邻苯二甲酸双十一烷基酯、邻苯二甲酸单苯酯、邻苯二甲酸单苄酯、邻苯二甲酸二苯酯、邻苯二甲酸二苄酯或其组合。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述有机溶剂包括邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二壬酯、邻苯二甲酸双十二烷基酯、邻苯二甲酸双十一烷基酯或其组合。

13.根据权利要求11所述的方法，其中所述有机溶剂包括邻苯二甲酸二壬酯、邻苯二甲酸双十二烷基酯、邻苯二甲酸双十一烷基酯或其组合。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述有机溶剂为邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二乙酯或其组合。

15.根据权利要求11所述的方法，其中所述有机溶剂包括邻苯二甲酸二甲酯。

16.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述过程流体中的所述有机溶剂浓度为所述过程流体的按重量计10ppm至按重量计1000ppm。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述有机溶剂浓度为100ppm至1000ppm。

18.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中将所述有机溶剂连续地添加到所述过程流体中。