[发明专利]透明部件、透明部件的制造方法以及透明部件的表面的污染情况的评价方法在审

专利信息
申请号: 201580056061.2 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN107074627A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 谷弘词;桑原雄一;平社英之;阿部启介 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;C03C17/23;C03C17/32;C03C19/00;G01B11/30;G01N21/958
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 刘多益,张佳鑫
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 透明 部件 制造 方法 以及 表面 污染 情况 评价
【说明书】:

技术领域

本发明涉及透明部件、透明部件的制造方法以及评价透明部件的表面的污染情况的评价方法。

背景技术

玻璃板等透明部件被用于建造物的窗或车辆的前窗玻璃、太阳能电池的覆盖玻璃等各种用途。

如果大气中的污染附着、堆积于用于室外的透明部件上,则外观和透光性下降。透光性的下降导致辨别性和发电效率的下降。

为了抑制污染的附着以及堆积,提出了对透明部件赋予防污性。作为防污性的赋予方法,例如,提出了在表面上设置拒水性或亲水性(拒油性)的涂层来防止污染的附着的方法(例如专利文献1)。

作为透明部件的防污性的评价方法,有喷雾污染促进液(关东土壤的水分散液等)等来污染透明部件的表面,之后,测定透明部件的雾度值和表面的光泽值的方法(例如专利文献2的实施例等)。

但是,基于雾度值和光泽值的评价不能区别例如局部严重污染的情况和整体轻度污染的情况。因此,在这样的指标中显示了良好的防污性的透明部件中,有时也实际上可以看见污染。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2000-192021号公报

专利文献2:日本专利特开2000-72488号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明的目的在于提供防污性优良的透明部件。

此外,本发明的目的还在于提供可得到防污性优良的透明部件的制造方法。

此外,本发明的目的在于提供显示出与目视评价的良好对应的透明部件的表面的污染情况的评价方法。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明包括以下技术内容。

[1]具有通过以下的方法(I)求出的均方根值σ为40以下的表面的透明部件。

方法(I):在暗室内,对透明部件的表面,以从与该表面平行的方向向反面侧倾斜5°的角度,照射照度20000勒克斯的光,用设置在该表面上的、并在与上述光的照射方向垂直的方向上的拍摄手段拍摄该表面,得到该表面的图像数据,通过图像处理软件分析从该图像数据随机选取的2处15mm×15mm的大小的区域,绘制以256色阶的亮度值为横轴、以像素数量的比例为纵轴的亮度值分布直方图。该亮度值分布直方图中的柱宽(ビンの幅)设为1。该亮度值分布直方图中的上述透明部件的像素数量的比例达到最大的亮度值设为x0

接着,使用以下的喷雾装置对上述透明部件的表面喷雾5秒钟的下述污染促进液,在60℃下干燥1小时后,使用上述喷雾装置对该表面喷雾180秒钟自来水,然后在60℃下干燥1小时,将以上工序作为1个循环,实施3个循环。在3个循环后,在暗室内,对上述表面以与上述相同的步骤照射照度20000勒克斯的光,拍摄该表面,得到该表面的图像数据,通过图像处理软件分析从该图像数据随机选取的2处15mm×15mm的大小的区域,绘制以256色阶的亮度值为横轴、像素数量为纵轴的亮度值分布直方图。对于第3次循环后得到的亮度值分布直方图,将与像素数量的比例对应的亮度值设为xi

污染促进液:以0.1质量%的浓度将JIS Z 8901(2006)中规定的试验用粉体1的11种(关东土壤,中值粒径1.6~2.3μm)分散在水中而得的分散液。

喷雾装置:被喷雾的液滴的粒径为10μm、喷雾量为20g/分钟、设置在离开上述表面600mm的位置的双流体喷嘴喷枪。

根据上述x0以及xi,通过下式(1)算出均方根值σ。

i表示像素数量的比例,为0~100的整数。n表示像素数量的比例的最大值,为100。

[数1]

[2]如[1]所述的透明部件,其中,上述均方根值σ为40以下的表面是存在凹凸的表面,该表面的突起密度为0.1~100个·μm-2,算术平均表面粗糙度(Ra)为2~60nm,水接触角为0~10°。

[3]如[1]或[2]所述的透明部件,其中,上述均方根值σ为40以下的表面是具有亲水性涂布膜的表面。

[4]如[3]所述的透明部件,其中,上述亲水性涂布膜的厚度为0.01~1.00μm。

[5]如[1]~[4]中任一项所述的透明部件,其中,上述透明部件为玻璃板。

[6]一种透明部件,其中,具有存在凹凸的表面,上述存在凹凸的表面的算术平均表面粗糙度(Ra)为8.5~30nm,均方根粗糙度(Rq)为11~30nm。

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