[发明专利]剥离片用重剥离添加剂及剥离片用有机聚硅氧烷组合物以及剥离片

说明书

本发明提供一种形成获得重剥离力、不降低固化性、能够在低温下固化、进一步地经剥离的压敏粘合片的残留粘接率的降低少的优异的剥离被膜的剥离片用重剥离添加剂及加成反应型的有机聚硅氧烷组合物、以及剥离片。本发明涉及一种剥离片用重剥离添加剂，含有使(A)具有自由基聚合性基团的有机聚硅氧烷化合物和(B)具有丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基的自由基聚合性单体进行自由基聚合而成的重均分子量为30,000～2,000,000的丙烯酸系－有机硅系接枝共聚物，上述(A)成分含有1分子中具有1个自由基聚合性基团的有机聚硅氧烷化合物(A1)，且上述(B)成分含有1分子中具有2个以上自由基聚合性基团的自由基聚合性单体(B2)。

技术领域

本发明涉及剥离片用重剥离添加剂，其为用于调整剥离片的剥离力的材料，特别是在需要重剥离力时具有优异的剥离调整效果，并生成经剥离的压敏粘合片等所显示的残留粘接率高、剥离速度依赖性小的剥离被膜；本发明还及含有该添加剂的加成反应型的有机聚硅氧烷组合物；以及使用其制造的剥离片。

背景技术

一直以来，通过在纸、塑料等片状基材的表面形成有机硅组合物的固化被膜，从而赋予对粘合材料的剥离特性。

作为在基材表面形成有机硅组合物的固化被膜的方法，已知下述 (1)～(3)。

(1)将铂系化合物作为催化剂使含有烯基的有机聚硅氧烷与有机氢聚硅氧烷进行加成反应，在基材表面形成剥离性被膜的方法(专利文献 1：日本特开昭47－32072号公报)。

(2)将有机锡化合物等有机酸金属盐作为催化剂，使含有羟基或烷氧基的有机聚硅氧烷与有机氢聚硅氧烷进行缩合反应，形成剥离性被膜的方法(专利文献2：日本特公昭35－13709号公报)。

(3)使用紫外线、电子束使含有丙烯酰基的有机聚硅氧烷与光反应引发剂进行自由基聚合，形成剥离性被膜的方法(专利文献3：日本特开昭54－162787号公报)。

上述在基材表面形成有机聚硅氧烷固化被膜的方法中，利用加成反应的剥离性被膜形成方法的固化性优异、能够应对从低速剥离到高速剥离的各种剥离特性的要求，因此被广泛使用。

通常，对于剥离纸用有机聚硅氧烷组合物，根据目的而要求具有各种剥离力，对于需要重剥离力的用途，广泛使用添加了含烯基MQ树脂 (M单元是指R₃SiO_1/2单元(R为1价烃基)，Q单元是指SiO_4/2单元) 的组合物。

但是，含烯基MQ树脂的重剥离化效果并不是那么高，有时即使大量添加也不满足目标剥离力。该含烯基MQ树脂昂贵，因此从成本方面是不优选大量添加的，寻求少量时重剥离化效果优异的组合物。此外，已知含烯基MQ树脂有如下倾向：随着时间的经过，剥离力与刚固化后的剥离力相比降低，因此寻求不存在经时的剥离力变化的组合物。

日本特公平5－53183号公报(专利文献4)是在剥离纸用有机聚硅氧烷组合物中组合使用含烯基MQ树脂和不含烯基MQ树脂的方案。虽然能够减少经时的剥离力变化，但重剥离化效果不充分。

日本专利第2750896号公报(专利文献5)是在溶剂型加成型剥离纸用有机聚硅氧烷组合物中配合含烯基树脂的方案，虽然可获得低温固化性和经时变化少的剥离力，但目标并不是重剥离化，剥离力也不重。

日本专利第2742835号公报(专利文献6)是在加成反应型有机聚硅氧烷组合物中添加含乙烯基有机聚硅氧烷和(R₃SiO_1/2)_a(R₂SiO)_b (RSiO_3/2)_c(SiO_4/2)_d(R表示一价的烃基，a、b、c、d表示各硅氧烷单元的摩尔分率。a＝0.1～0.6、b＝0～0.45、c＝0～0.3、d＝0.3～2.0) 所示的有机聚硅氧烷的平衡化产物的方案，可认为是键合有乙烯基末端的硅氧烷的MQ树脂。