[发明专利]苛性水性烷基多糖苷剥离组分

权利要求书

1.一种用于除去聚合物底物的一个或多个涂层的单相水溶液，包含：

水；

无机碱组分；

一种或多种稳定过氧化物组分和单糖盐；以及表面活性剂组分。

2.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述无机碱组分存在的量足以建立以mol/L(M)计的以下一种或多种氢氧化物大致浓度：0.0125M-0.625M；0.025M-0.5M；0.025M-0.375M；0.025M-0.25M；0.025M-0.125M；以及0.0625M。

3.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述无机碱组分包含与水重量百分浓度(w/w)为约0.375％的氢氧化钠。

4.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述稳定过氧化物组分包含过碳酸钠。

5.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述稳定过氧化物组分存在的量足以提供摩尔浓度为约9.55mM至约478mM的过氧化物浓度。

6.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述表面活性剂组分包含一种或多种烷基多糖苷，在所述一种或多种烷基多糖苷中的每个烷基独立来自以下一种或多种：椰子油或棕榈仁油的脂肪醇衍生物；和C₈-C₁₆烷基。

7.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述表面活性剂组分包含至少一种烷基多糖苷和至少一种烷氧基化醇。

8.根据权利要求1所述的单相水溶液，进一步包含包括D-葡萄糖钠的单糖盐。

9.根据权利要求1所述的单相水溶液，所述表面活性剂组分与水的重量百分浓度(w/w)约为以下一种或多种：0.01％-0.5％；0.025％至约0.4％；0.05％-0.3％；0.075％-0.25％；0.1％至约0.2％；和0.15％。

10.一种使用单相水溶液除去聚合物底物上的一个或多个涂层的方法100，包含：

102，提供单相水溶液，所述单相水溶液包含：水；无机碱组分；一种或多种稳定过氧化物组分和一单糖盐；以及表面活性剂组分；

104，提供聚合物底物，所述聚合物底物包含一个或多个涂层；以及

106，在有效除去聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件下，使单相水溶液和聚合物底物接触以形成过程混合物。

11.根据权利要求9所述的方法，有效除去聚合物底物上的一个或多个涂层的一部分的条件可包括在约60℃-100℃条件下加热过程混合物。

12.根据权利要求9所述的方法，从聚合膜有效除去一个或多个涂层的一部分的条件可包括：确定起始涂层量；加热并搅动过程混合物；确定少于起始涂层量的一百分率的过程涂层量；并在确定过程涂层量少于起始涂层量的该百分率时回收聚合膜，所述起始涂层量的百分率为以下一种或多种：20％,15％,14％,13％,12％,11％,10％,9％,8％,7％,6％,5％,4％,3％,2％,或1％。

13.根据权利要求9所述的方法，包含提供水，所述水与聚合物底物的重量比约为以下一种或多种：4:1-32:1；8:1-24:1；10:1-20:1；12:1-18:1；14:1-18:1；15:1-17:1；和16:1。

14.根据权利要求9所述的方法，所述无机碱组分包含氢氧化钠。

15.根据权利要求9所述的方法，所述稳定过氧化物包含过碳酸钠。

16.根据权利要求9所述的方法，所述表面活性剂组分包含一种或多种烷基多糖苷，在所述一种或多种烷基多糖苷中的每个烷基独立地来自以下一种或多种：椰子油或棕榈仁油的脂肪醇衍生物；和C₈-C₁₆烷基。

17.根据权利要求9所述的方法，所述表面活性剂组分包含至少一种烷基多糖苷和至少一种烷氧基化醇。

18.根据权利要求9所述的方法，进一步包括监测过程混合物以除去一个或多个涂层；以及在聚合物底物染色发生之前，从与以下一种或多种物质接触的状态中回收聚合物底物：单相水溶液、无机碱组分、过氧化物组分、单糖盐、以及表面活性剂组分。