[发明专利]显示装置基板、显示装置基板的制造方法及使用其的显示装置有效

专利信息
申请号: 201580057277.0 申请日: 2015-10-29
公开(公告)号: CN107077807B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 木村幸弘;福吉健蔵 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/1333;G02F1/1343;G02F1/1368;G06F3/041;G06F3/044;G09F9/00;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/532
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 制造 方法 使用
【权利要求书】:

1.一种显示装置基板,其具备:

作为无碱玻璃的透明基板;

在所述透明基板上配置于多个像素间的黑色布线,该黑色布线含有第1导电性金属氧化物层、配置于所述第1导电性金属氧化物层上的金属层、配置于所述金属层上的第2导电性金属氧化物层、以及配置于所述第2导电性金属氧化物层上的黑色层,

所述黑色布线在第1方向上延伸,在大致垂直于所述第1方向的第2方向上隔着规定间隔配置有多个所述黑色布线,

所述黑色布线在延伸至包含所述多个像素的显示区域外的端部处含有具备所述第2导电性金属氧化物层露出而成的端子部的引出布线,

所述金属层由铜或铜合金形成,

所述黑色层以碳为主要色料,

所述第1及第2导电性金属氧化物层由氧化铟、氧化锌和氧化锡的混合氧化物形成,所述混合氧化物所含的铟(In)、锌(Zn)与锡(Sn)的以In/(In+Zn+Sn)所示的原子比大于0.8,且Zn/Sn的原子比大于1,

所述第1导电性金属氧化物层、所述金属层、所述第2导电性金属氧化物层及所述黑色层为相等的线宽。

2.根据权利要求1所述的显示装置基板,其中,所述黑色层所含的碳的含量为4质量%以上且50质量%以下的范围内。

3.根据权利要求1所述的显示装置基板,其特征在于,在所述第1导电性金属氧化物层与所述金属层的界面进一步具备使金属氧化而成的黑色氧化物层。

4.根据权利要求1所述的显示装置基板,其中,

在所述透明基板与所述第1导电性金属氧化物层的界面进一步具备第2黑色层,

所述第2黑色层为与所述黑色布线相等的线宽。

5.根据权利要求1所述的显示装置基板,其中,按照至少将所述显示区域覆盖的方式在所述黑色布线上层叠有透明树脂层。

6.根据权利要求1所述的显示装置基板,其中,在所述黑色布线的上层层叠有含有分别对应于所述多个像素配置的红色着色层、蓝色着色层和绿色着色层的滤色器层,在所述滤色器层上按照将所述显示区域覆盖的方式层叠有透明树脂层。

7.一种显示装置基板的制造方法,其为在作为无碱玻璃的透明基板上具有多个像素的显示区域上具备将所述多个像素区分开、在延伸至所述显示区域外的端部具有端子部的黑色布线的显示装置基板的制造方法,其中,

其具备以下工序:

在作为无碱玻璃的透明基板上形成第1导电性金属氧化物层、由铜层或铜合金层构成的金属层和第2导电性金属氧化物层的成膜工序;

将至少含有碳和碱可溶性的丙烯酸树脂的黑色感光液涂布在所述第2导电性金属氧化物层上并进行干燥而制成黑色膜的涂布工序;

通过具备所述黑色布线的第1图案、和透光率与所述第1图案不同的所述端子部的第2图案的半色调掩模进行曝光,使用碱显影液将透明基板上的所述黑色膜选择性地除去,同时作为所述黑色布线的图案残留厚的黑色膜,作为所述端子部的图案形成薄的黑色膜的黑色膜的图案形成工序;

使用湿式刻蚀的手法将所述第1导电性金属氧化物层、所述铜层或铜合金层构成的金属层和所述第2导电性金属氧化物层这3层的未被黑色膜覆盖的部分除去的湿式刻蚀工序;

使用干式刻蚀的手法,将作为所述黑色布线图案的厚的黑色膜的表面的一部分在膜厚方向上除去,同时将作为所述端子部的图案的薄的黑色膜除去,使所述端子部的第2导电氧化物层的表面露出的干式刻蚀工序,

形成在所述透明基板上以分别相等的线宽按顺序层叠第1导电性金属氧化物层、由铜层或铜合金层构成的金属层、第2导电性金属氧化物层、以及以碳为主要色料的黑色层而成的黑色布线。

8.一种显示装置,其具备权利要求1~6中任一项所述的显示装置基板、与所述显示装置基板相面对地固定的阵列基板、以及配置在所述显示装置基板与所述阵列基板之间的液晶层,其中,

所述阵列基板具备在俯视下配置在多个像素的相邻位置及与所述黑色布线重叠的位置上的有源元件、电连接于所述有源元件的金属布线、以及在与所述黑色布线交叉的方向上延伸的触摸金属布线。

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