[发明专利]有机材料膜或有机无机复合材料膜的激光蒸镀方法、激光蒸镀装置

权利要求书

1.一种激光蒸镀方法，其是对基板激光蒸镀至少一种有机材料的方法，其特征在于，对使该有机材料蒸发的激光的占空比进行调节，其中

基于所述有机材料的蒸发速度或者基于蒸镀用真空腔内的蒸气压，对所述占空比进行调节。

2.如权利要求1所述的激光蒸镀方法，其中，利用占空比调节后的激光使有机材料蒸发，并且利用激光使无机材料蒸发，共蒸镀有机无机复合物。

3.如权利要求2所述的激光蒸镀方法，其中，使用有机阳离子的卤化物作为所述有机材料，使用MX₂作为所述无机材料，共蒸镀有机无机复合钙钛矿，

式中M为二价的金属离子，X为选自由F、Cl、Br、I组成的组中的至少一种卤素。

4.一种激光蒸镀装置，其是激光蒸镀至少一种有机材料时所使用的激光蒸镀装置，该激光蒸镀装置具备该有机材料的蒸发速度测定单元和基于利用该蒸发速度测定单元测定的蒸发速度对使所述有机材料蒸发的激光的占空比进行调节的占空比调节单元。

5.一种激光蒸镀装置，其是激光蒸镀至少一种有机材料时所使用的激光蒸镀装置，该激光蒸镀装置具备对蒸镀用真空腔内的蒸气压进行测定的蒸气压测定单元和基于利用该蒸气压测定单元测定的蒸气压对使所述有机材料蒸发的激光的占空比进行调节的占空比调节单元。

6.一种激光蒸镀方法，其是在基板上形成有机无机复合钙钛矿的膜的激光蒸镀方法，

所述方法具有如下步骤：对有机材料照射激光从而使所述有机材料蒸发，并且对无机材料照射激光从而使所述无机材料蒸发，将所述有机材料与所述无机材料在所述基板上共蒸镀，从而形成所述有机无机复合钙钛矿的膜，

所述有机材料是有机阳离子的卤化物，

所述无机材料是MX₂，式中M为二价的金属离子，X为选自由F、Cl、Br、I组成的组中的至少一种卤素，其中

对所述有机材料照射的激光是可调节激光脉冲的脉冲宽度及振幅的脉冲状的激光，

对所述无机材料照射的激光设为可调节功率的连续激光或者可调节占空比的脉冲状的激光中的任一种。

7.如权利要求6所述的激光蒸镀方法，其中

对所述有机材料照射的激光是可调节占空比的脉冲状的激光，

对所述有机材料照射的激光的所述占空比是基于所述有机材料的蒸发速度调节的。

8.如权利要求6所述的激光蒸镀方法，其中

所述基板、所述有机材料和所述无机材料设置于所述真空腔内，

对所述有机材料照射的激光是可调节占空比的脉冲状的激光，

对所述有机材料照射的激光的所述占空比是基于所述真空腔内的蒸气压而调节的。

9.如权利要求6所述的激光蒸镀方法，其中

所述基板、所述有机材料和所述无机材料设置于所述真空腔内，

在将所述有机材料与所述无机材料共蒸镀于所述基板时，在真空度维持在等于或略高于10^-3Pa的状态下进行共蒸镀。

10.如权利要求6所述的激光蒸镀方法，其中

所述有机无机复合钙钛矿由式(1)或式(2)表示：

AMX₃ (1)

B₂MX₄ (2)

式中A、B为有机阳离子，M为2价的金属离子，X为卤素。

11.如权利要求10所述的激光蒸镀方法，其中

所述A为CH₃NH₃⁺，

所述B为R¹NH₃⁺，式中R¹是碳原子数为2以上的烷基、烯基、芳烷基或芳基，

所述M为Pb、Sn或Ge中的任一种。