[发明专利]用于提供靶材料的设备和方法

权利要求书

1.一种用于向系统提供靶材料的设备，所述系统用于通过在等离子体位置处从熔化的靶材料在照射腔室中产生等离子体来产生EUV辐射，所述设备包括：

靶材料贮存器，其包括

腔室，其用于接收固体形式的靶材料，使用部分真空以及不同于大气气体的气体中的至少一项来将所述腔室与大气至少部分地隔离以减少所述靶材料的污染，以及

感应加热器，其与所述腔室的内部电磁连通，并且被布置为通过电磁感应来加热所述腔室中的靶材料以及将所述腔室中的固体形式的靶材料转换为液体形式的靶材料，其中当所述熔化的靶材料被照射时所述靶材料贮存器被配置为从所述照射腔室移除；以及

靶材料分配器，其与所述靶材料贮存器流体连通，并且被布置为当所述靶材料贮存器耦合至所述靶材料分配器以用于再填充时从所述靶材料贮存器接收液体形式的靶材料，以及当从所述照射腔室移除所述靶材料贮存器时将所述液体形式的靶材料分配至所述等离子体位置。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述腔室是电绝缘外壳的内部，并且所述感应加热器包括缠绕在所述电绝缘外壳的至少一部分周围的线圈。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述电绝缘外壳包括陶瓷材料。

4.根据权利要求2所述的设备，其中所述线圈包括绞合线。

5.根据权利要求2所述的设备，进一步包括在所述电绝缘外壳中的插入端口，所述插入端口的尺寸被设计为能够允许将棒形状的固体形式的靶材料插入至所述腔室中。

6.根据权利要求2所述的设备，进一步包括在所述电绝缘外壳中的插入端口，所述插入端口的尺寸被设计为能够允许将包括固体形式的靶材料的线插入至所述腔室中。

7.根据权利要求2所述的设备，进一步包括在所述电绝缘外壳中的入口端口，以用于将所述气体提供至所述腔室，所述气体是缓冲气体和合成气体之一。

8.根据权利要求2所述的设备，进一步包括在所述电绝缘外壳中的端口，以用于将所述部分真空施加至所述腔室。

9.一种用于向系统提供靶材料的设备，所述系统用于通过在等离子体位置处从熔化的靶材料在照射腔室内产生等离子体来产生EUV辐射，所述设备包括：

靶材料贮存器，其包括

陶瓷外壳，其包括用于通过在所述陶瓷外壳中的插入端口接收固体形式的靶材料的腔室，使用部分真空和不同于大气气体的气体中的至少一项来将所述腔室至少部分地与大气隔离以减少所述靶材料的污染，以及

线圈，其与所述腔室电磁连通，并且被布置为通过电磁感应来加热所述腔室中的靶材料以及将所述腔室中的固体形式的靶材料转换为液体形式的靶材料；以及

出口端口，其在所述陶瓷外壳中以用于允许熔化的靶材料从所述腔室流出，所述陶瓷外壳还包括入口端口以允许将缓冲气体引入至所述腔室中，其中所述靶材料贮存器被配置为当所述熔化的靶材料被照射时从所述照射腔室移除。