[发明专利]具有低闪光、DOI和透射雾度的防眩光基材

权利要求书

1.一种形成防眩光表面的方法，所述方法包括：

用蚀刻剂蚀刻掉基材的一部分表面以提供经蚀刻的表面，所述蚀刻剂展现出小于或等于50g/100g水的水溶解度；以及

去除一部分的经蚀刻的表面，以提供所述防眩光表面，

其中，具有所述防眩光表面的基材展现出小于或等于10％的透射雾度、小于或等于6％的PPDr，以及所述防眩光表面展现出小于或等于80的DOI，其中，PPDr是低像素功率偏差参照，以及其中，DOI是图像清晰度。

2.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在对一部分表面进行蚀刻的同时，在所述表面上产生多个不可溶晶体。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述不可溶晶体包含钾。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述不可溶晶体展现出小于10g/100g水的水溶解度。

5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述不可溶晶体包括K₂SiF₆和K₃AlF₆中的任意一种或多种。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述去除一部分的经蚀刻的表面包括去除厚度最高至100微米的表面。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述厚度为40-100微米。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述去除一部分的经蚀刻的表面包括将表面暴露于化学抛光溶液。

9.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，在所述去除一部分的经蚀刻的表面之前，去除所述蚀刻剂。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述蚀刻剂包含钾盐。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述钾盐存在的量为1-20重量％。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述钾盐存在的量为5-15重量％。

13.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述钾盐包括以下任意一种或多种：氯化钾(KCl)、硝酸钾(KNO₃)、硫酸钾(K₂SO₄)和乙酸钾。

14.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述蚀刻剂还包含有机溶剂和含氟酸。

15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，所述有机溶剂存在的量为0-40重量％。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，所述有机溶剂包括与水混溶有机溶剂。

17.如权利要求14所述的方法，其特征在于，所述含氟酸存在的量为0.5-6重量％。

18.如权利要求17所述的方法，其特征在于，所述含氟酸包括以下任意一种或多种：氢氟酸(HF)和氟化氢铵(NH₄HF₂)。

19.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述蚀刻剂基本不含铵盐。

20.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述蚀刻剂还包含以下任意一种或多种：氟化铵、不可溶颗粒和表面活性剂。