[发明专利]防止伪造用的光学元件有效

专利信息
申请号: 201580061085.7 申请日: 2015-11-10
公开(公告)号: CN107148583B 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 屋铺一寻;永野彰;杉原启太郎;田代智子 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;B42D25/324;G02B5/18;G03H1/02;G07D7/12;G07D7/128;G09F19/12
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 防止 伪造 光学 元件
【权利要求书】:

1.一种防止伪造用的光学元件,其特征在于,

在表面具有浮雕构造的第二层的上方配置有第一层,且至少具有第一区域和第二区域,并且所述第一层和所述第二层的折射率互不相同,

构成为从所述第一层侧以预先设定的特定角度入射的电磁波,因所述第一区域的浮雕构造以及所述第二层的折射率相对于所述第一层的折射率的比中的至少一者而进行全反射,

构成为从所述第一层侧以所述特定角度入射的电磁波,因所述第二区域的浮雕构造以及所述第二层的折射率相对于所述第一层的折射率的比中的至少一者进行透过或折射而不进行全反射,

仅在从所述第一层侧的所述特定角度观察的情况下,至少与所述第一区域相比,所述第二区域的透明性高,通过所述第一区域和所述第二区域的透明性的对比度而表现出预先设定的图像,

与所述第一层相比,所述第二层的折射率低,所述浮雕构造具有相对于光学元件平面倾斜的斜面,

在将光源放置于观察点侧而从任意的观察点进行观察时,

在将向所述第一区域的所述浮雕构造的斜面的入射角设为θf1

将向所述第二区域的所述浮雕构造的斜面的入射角设为θf2

将所述第一区域中的所述第一层的折射率设为N1、将所述第一区域中的所述第二层的折射率设为N2

将所述第二区域中的所述第一层的折射率设为N3、且将所述第二区域中的所述第二层的折射率设为N4的情况下,满足式1以及式2,

θf1≥arcsin(N2/N1)···(式1)

arcsin(N4/N3)>θf2···(式2)。

2.根据权利要求1所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

具有配置为与所述第二层接触的第三层,该第三层是记载有记号以及图像图案中的至少一者的打印层。

3.根据权利要求1所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

具有配置为与所述第二层接触的第四层,该第四层是着色层。

4.根据权利要求3所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

具有配置为与所述第四层的所述第二层相反侧的面接触的第五层,该第五层是电磁波吸收层。

5.根据权利要求1所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

具有配置为与所述第一层接触的第六层以及配置为与所述第二层接触的第七层,所述第六层是着色层,所述第七层是电磁波吸收层。

6.根据权利要求1所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

所述浮雕构造的至少一部分具有周期性构造,具有能产生该周期性构造以及莫尔条纹的第八层。

7.根据权利要求1所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

在从相对于光学元件平面垂直的方向观察所述第一区域和所述第二区域的至少一个区域的情况下,通过由双眼和光学元件的位置所规定的辐辏角而产生视差图像。

8.一种防止伪造用的光学元件,其特征在于,

其是将权利要求1所述的防止伪造用的光学元件层叠大于或等于2层的结构。

9.根据权利要求8所述的防止伪造用的光学元件,其特征在于,

层叠的光学元件的至少2个层具有周期性浮雕构造,2个周期性浮雕构造产生莫尔条纹。

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