[发明专利]具有低的粘结剂含量及低的外表面积的由X沸石制备的沸石吸附剂、其制备方法及其用途

权利要求书

1.包含沸石基相及非沸石基相的吸附剂，所述吸附剂具有：

- 小于或等于30m²·g^-1的外表面积，

- 包括至少一种X型的FAU结构的沸石的沸石基相，

- 及如下的孔径分布，其根据标准ASTM D 4284-83通过压汞法测定及通过体积分布dV/dlogD_Hg表示，其中D_Hg为表观孔径及V为孔体积，其众数在100nm与250nm之间，包含限值，

- 在0.15cm³·g^-1与0.5cm³·g^-1之间的包含于大孔及中孔中的总体积(大孔体积及中孔体积之和)，包含限值，根据标准ASTM D 4284-83通过压汞法测量，

所述沸石为分级多孔的。

2.如权利要求1所述的吸附剂，其中所述外表面积小于或等于20m²·g^-1。

3.如权利要求1所述的吸附剂，其中该孔径分布对应于单峰分布。

4.如权利要求1-3任一项所述的吸附剂，其由77K的温度下的氮气(N₂)吸附等温线经由t-plot方法评估的微孔体积大于0.200cm³·g^-1。

5.如权利要求4所述的吸附剂，其由77K的温度下的氮气(N₂)吸附等温线经由t-plot方法评估的微孔体积在0.205cm³·g^-1与0.300cm³·g^-1之间。

6.如权利要求4所述的吸附剂，其由77K的温度下的氮气(N₂)吸附等温线经由t-plot方法评估的微孔体积在0.205cm³·g^-1与0.290cm³·g^-1之间。

7.如权利要求1-3任一项所述的吸附剂，其以相对于该吸附剂的总重量的在2重量%与8重量%之间的含量包含非沸石基相。

8.如权利要求1-3任一项所述的吸附剂，其包含钡或钡及钾。

9.如权利要求1-3任一项所述的吸附剂，其具有在0.2与1之间的(大孔体积)/(大孔体积+中孔体积)的比率，包含限值。

10.如权利要求1-3任一项所述的吸附剂，其具有在1.00与1.50之间的Si/Al原子比，包含限值。

11.制备如权利要求1至10任一项所述的吸附剂的方法，其包括至少以下步骤：

a)用粘结剂与容许附聚材料成形的量的水使具有通过氮气吸附测量的大于20m²·g^-1的外表面积的至少一种FAU沸石的晶体附聚，随后将附聚物干燥并煅烧；

b)通过将步骤a)中获得的附聚物与碱性水溶液接触使全部或部分粘结剂沸石化，任选地在至少一种结构化剂的存在下；

c)任选地除去任选地存在的结构化剂；

d)通过将步骤b)或c)中的附聚物与钡离子溶液或钡离子及钾离子的溶液接触进行阳离子交换；

e)任选地通过将步骤d)的附聚物与钾离子的溶液接触进行额外的阳离子交换；

f)将步骤d)或e)中获得的附聚物洗涤并干燥，在50℃与150℃之间的温度下；及

g)在100℃与400℃之间的温度下，通过将步骤f)中获得的附聚物在氧化和/或惰性气体流下活化而产生沸石基吸附剂。