[发明专利]X射线预曝光控制设备在审
申请号: | 201580062948.2 | 申请日: | 2015-11-16 |
公开(公告)号: | CN106999127A | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | K·埃哈德 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 李光颖,王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 曝光 控制 设备 | ||
1.一种X射线预曝光控制设备(10),包括:
对象探测单元(11),
对象模型单元(12),
接口单元(13),
处理单元(14),以及
显示单元(15),
其中,所述对象探测单元(11)被配置为探测要被曝光的对象(111)的对象数据,
其中,所述对象模型单元(12)被配置为提供对象模型并且被配置为基于所述对象数据将所述对象模型改善为改善的对象模型,
其中,所述接口单元(13)被配置为提供要被用于曝光所述对象的X射线单元(131)的设置数据,
其中,所述处理单元(14)被配置为基于所述改善的对象模型和所提供的设置数据来计算虚拟X射线投影(151),并且
其中,所述显示单元(15)被配置为显示所述虚拟X射线投影(151)。
2.根据权利要求1所述的X射线预曝光控制设备(10),还包括输入单元(16),其被配置为调节所述对象、所述对象模型和/或所述X射线单元(131)的所述设置数据,其中,所述处理单元(14)还被配置为基于该调节来重新计算所述虚拟X射线投影(151),并且其中,所述显示单元(15)被配置为显示基于该调节的所述虚拟X射线投影(151)。
3.根据前述权利要求所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述设置数据是要被用于曝光所述对象的子区域的所述X射线单元(131)的准直参数。
4.根据前述权利要求所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述准直参数是由所述显示单元(15)显示的准直窗口,并且其中,所述输入单元(16)被配置为交互地调节所述准直窗口的位置、尺寸和/或取向。
5.根据前述权利要求中的一项所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述对象探测单元(11)被配置为探测所述对象的解剖界标(112)的位置,并且被配置为基于所述解剖界标(112)的所述位置来探测所述对象的取向。
6.根据前述权利要求中的一项所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述对象探测单元(11)是具有以下项的组中的至少一项:光学、红外、超声、雷达相机或传感器;重量传感器;深度传感器;感测呼吸周期的传感器;感测心脏周期的传感器;毫米波传感器;以及反向散射X射线传感器。
7.根据前述权利要求所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述对象数据是尺度数据和/或相位数据,
其中,所述尺度数据包括具有以下项的组中的至少一项:所述对象的形状、尺寸、位置和取向,
其中,所述相位数据包括心脏周期和/或呼吸周期,并且
其中,所述处理单元(14)被配置为基于所述相位数据连续地重新计算所述虚拟X射线投影(151),并且其中,所述显示单元(15)被配置为连续地显示基于所述相位数据的所述虚拟X射线投影(151)。
8.根据前述权利要求中的一项所述的X射线预曝光控制设备(10),还包括患者定位质量指示单元,所述患者定位质量指示单元包括定位质量传感器(171),所述定位质量传感器被配置为探测相对于X射线单元(131)的对象的定位。
9.根据前述权利要求所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述定位质量传感器(171)包括具有以下项的组中的至少一项:接触传感器、力传感器以及光学相机,其中,后者被配置为跟踪对象的呼吸。
10.根据前述权利要求中的一项所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,所述对象模型单元(12)被配置为基于具有以下项的组中的至少一项来选择所述对象模型:所述对象的尺寸、重量、年龄、性别、胸部体积和在界标(112)之间的距离。
11.根据前述权利要求中的一项所述的X射线预曝光控制设备(10),其中,要被用于曝光所述对象的所述X射线单元(131)的所述设置数据是具有以下项的组中的至少一项:X射线源、探测器、焦斑或准直器的位置或取向;曝光时间;散射网格的可用性;以及kVp。
12.一种X射线成像系统(1),包括:
根据前述权利要求中的一项所述的X射线预曝光控制设备(10),以及X射线单元(131),
其中,所述X射线单元(131)被配置为将所述对象曝光于X射线辐射。
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