[发明专利]用于同位素产生系统的靶体及其使用方法

权利要求书

1.一种用于同位素产生系统的靶系统的靶体，所述靶体包括：

靶室，所述包括具有第一表面区域的第一室和具有大于第二表面区域的第二室，所述第二表面区域大于所述第一表面区域；其中，所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质。

2.根据权利要求1所述的靶体，其中，所述第一室具有第一容积，且所述第二室具有大于所述第一容积的第二容积。

3.根据权利要求1所述的靶体，其中，所述第二室具有扇形截面。

4.根据权利要求1所述的靶体，其中，所述第二室进一步包括用于冷凝汽化靶介质的多个冷凝杆。

5.根据权利要求4所述的靶体，其中，所述多个冷凝杆具有圆形截面。

6.根据权利要求4所述的靶体，其中，所述多个冷凝杆和所述靶体由同一种材料制成。

7.根据权利要求1所述的靶体，其中，所述第二室包括用于冷凝汽化靶介质的多个微结构。

8.根据权利要求1所述的靶体，进一步包括散热器，所述散热器包括连接到后壁表面的多个冷却剂微通道。

9.一种同位素产生系统，包括：

加速器；以及

靶系统，所述靶系统设置在靠近所述加速器处，所述靶系统包括：

靶体，所述靶体设置在靠近所述加速器处，所述靶体包括：

靶室，所述靶室包括具有第一表面区域的第一室和具有第二表面区域的第二室，所述第二表面区域大于所述第一表面区域；其中，所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质；以及

部件，所述部件连接到所述靶体并且配置成产生放射。

10.根据权利要求9所述的同位素产生系统，其中，所述第一室具有第一容积，且所述第二室具有大于所述第一容积的第二容积。

11.根据权利要求9所述的同位素产生系统，其中，所述第二室具有扇形截面。

12.根据权利要求9所述的同位素产生系统，其中，所述第二室包括用于冷凝汽化靶介质的多个冷凝杆。

13.根据权利要求12所述的同位素产生系统，其中，所述多个冷凝杆具有圆形截面。

14.根据权利要求12所述的同位素产生系统，其中，所述多个冷凝杆和所述靶体由同一种材料制成。

15.根据权利要求9所述的同位素产生系统，其中，所述第二室包括用于冷凝汽化靶介质的多个微结构。

16.根据权利要求9所述的同位素产生系统，其中所述靶体进一步包括散热器，所述散热器包括连接到后壁表面的多个冷却剂微通道。

17.一种用于操作同位素产生系统的方法，所述方法包括：

将来自加速器的带电粒子束指向形成于靶系统靶体中的靶室；

通过连接到所述靶体的部件产生放射；

将所述带电粒子束聚焦到容纳于所述靶室的第一室中的液体靶介质；

响应于所述带电粒子束的聚焦而蒸发所述液体靶介质；

在所述靶室的第二室中冷凝汽化靶介质；其中，所述第一室具有第一表面区域，并且所述第二室具有大于所述第一表面区域的第二表面区域；以及

将冷凝靶介质引导至所述第一室。

18.根据权利要求17所述的方法，其中，冷凝汽化靶介质包括形成所述冷凝靶介质的多个液滴。

19.根据权利要求17所述的方法，其中，冷凝汽化靶介质包括通过设在所述蒸汽室中的多个冷凝杆形成所述冷凝靶介质的多个液滴。

20.根据权利要求17所述的方法，其中，冷凝汽化靶介质包括通过所述蒸汽室中的多个微结构形成所述冷凝靶介质的多个液滴。

21.根据权利要求17所述的方法，进一步包括通过连接到所述靶体的后壁表面的散热器的多个微通道使冷却剂进行循环。