[发明专利]二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物

权利要求书

1.通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物：

其中

-Z代表硫原子；

-相同的R₁代表氢原子；或选自C₁-C₂₀烷基取代的芳基基团、或萘基；

-相同的R₂和R₃代表氢原子；

-相同的R₄选自未被取代的苯基或C₁-C₂₀烷基取代的苯基、或萘基。

2.根据权利要求1所述的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物，其中在所述通式(I)中：

-Z代表硫原子；

-相同的R₁代表氢原子；或为2,6-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、或萘基；

-相同的R₂和R₃代表氢原子；

-相同的R₄为苯基、2,6-二甲基苯基、二苯基、或萘基。

3.用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺：

其中Z、R₁、R₂和R₃具有与权利要求1或2所描述的相同的含义，所述工艺包括使至少一种通式(II)的氟化二取代苯并杂二唑化合物：

其中Z、R₂和R₃具有与权利要求1或2所描述的相同的含义，与至少一种通式(III)的芳基醇反应：

R₄-OH(III)

其中R₄具有与权利要求1或2所描述的相同的含义；所述通式(II)的氟化二取代二芳基苯并杂二唑化合物和所述通式(III)的芳基醇以在从1:2至1:10的范围内的摩尔比使用。

4.根据权利要求3所述的用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺，其中所述通式(II)的氟化二取代二芳基苯并杂二唑化合物和所述通式(III)的芳基醇以在从1:2至1:5的范围内的摩尔比使用。

5.根据权利要求3或4所述的用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺，其中所述工艺在以下条件下进行：

-在至少一种弱有机碱的存在下，所述弱有机碱选自：碱金属的羧酸盐或碱土金属的羧酸盐、或其混合物；碱金属的碳酸盐或碱土金属的碳酸盐、或其混合物；碱金属的碳酸氢盐或碱土金属的碳酸氢盐、或其混合物；所述通式(II)的氟化二取代二芳基苯并杂二唑化合物和所述弱有机碱以在从1:1至1:10的范围内的摩尔比使用；和/或

-在至少一种有机溶剂的存在下，所述有机溶剂选自：醚；烃；偶极非质子溶剂；所述通式(II)的氟化二取代二芳基苯并杂二唑化合物以使得在所述有机溶剂中具有在从0.05M至2M的范围内的摩尔浓度的量在所述有机溶剂中使用；

-在从60℃至150℃的范围内的温度下，持续在从1小时至24小时的范围内的时间。

6.根据权利要求5所述的用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺，其中所述弱有机碱选自碳酸钾、碳酸钠或碳酸铯。

7.根据权利要求5所述的用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺，其中所述通式(II)的氟化二取代二芳基苯并杂二唑化合物和所述弱有机碱以在从1:2至1:5的范围内的摩尔比使用。

8.根据权利要求5所述的用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺，其中所述醚是1,2-二甲氧基乙烷、1,4-二氧六环、四氢呋喃、或其混合物。

9.根据权利要求5所述的用于制备通式(I)的二取代二芳氧基苯并杂二唑化合物的工艺，其中所述烃是甲苯、二甲苯、或其混合物。