[发明专利]用于高温RF应用的静电吸盘

权利要求书

1.一种静电吸盘，包括：

圆盘，所述圆盘具有支撑表面以及相对的第二表面，当基板设置于所述圆盘上时，所述支撑表面支撑所述基板，其中一或多个吸附电极嵌入于所述圆盘中；

主体，所述主体具有耦接至所述圆盘的所述第二表面的支撑表面以支撑所述圆盘；

DC电压感测电路，所述DC电压感测电路设置于所述圆盘的所述支撑表面上；及

电感器，所述电感器设置于所述主体中且靠近所述主体的支撑表面，其中所述电感器电耦接至所述DC电压感测电路，并且其中所述电感器被配置为过滤高频电流以准确地测量所述基板上的DC电位。

2.在如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述圆盘是介电盘。

3.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述DC电压感测电路包括导电金属迹线，所述导电金属迹线靠近所述圆盘的中心部分且部分设置于所述圆盘的所述中心部分附近。

4.如权利要求3所述的静电吸盘，其中所述导电金属迹线包括从所述圆盘的所述中心部分径向向外延伸0.5英寸至2.5英寸的线性迹线部分，其中所述线性迹线部分电耦接至电端子，且其中所述电端子与所述电感器电耦接。

5.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述电感器被设置成距离所述圆盘的支撑表面0.5英寸至2.5英寸。

6.如权利要求1-5的任一项所述的静电吸盘，其中所述电感器是陶瓷电感器。

7.如权利要求1-5的任一项所述的静电吸盘，其中所述一或多个吸附电极包括嵌入于所述圆盘中的两个独立受控的电极。

8.如权利要求1-5的任一项所述的静电吸盘，其中所述一或多个吸附电极的每一个的厚度是所述一或多个吸附电极的计算出的趋肤深度的3倍至5倍。

9.如权利要求1-5的任一项所述的静电吸盘，所述一或多个吸附电极被配置为承载在13.56 MHz至40 MHz频率下的功率。

10.如权利要求1-5的任一项所述的静电吸盘，其中所述一或多个吸附电极的每一个由钨制成且具有50微米至90微米的厚度。

11.如权利要求1-5的任一项所述的静电吸盘，其中所述一或多个吸附电极经由第一组一或多个高温同轴缆线而耦接至吸附电源。

12.如权利要求11所述的静电吸盘，其中所述第一组一或多个高温同轴缆线包括高温护套、固体金属RF屏蔽、介电芯和中心导体，所述高温护套能承受摄氏200度至摄氏500度的温度。

13.一种静电吸盘，包括：

圆盘，所述圆盘具有支撑表面以及相对的第二表面，当基板设置于所述圆盘上时，所述支撑表面支撑所述基板，其中一或多个吸附电极嵌入于所述圆盘中，其中所述一或多个吸附电极的每一个的厚度是所述一或多个吸附电极的计算出的趋肤深度的3倍至5倍，并且其中所述一或多个吸附电极被配置为承载在13.56 MHz至40 MHz频率下的功率；

DC电压感测电路，所述DC电压感测电路设置于所述圆盘的所述支撑表面上；

主体，所述主体具有耦接至所述圆盘的所述第二表面的支撑表面以支撑所述圆盘；及

电感器，所述电感器设置于所述主体中且靠近所述主体的所述支撑表面，其中所述电感器电耦接至所述DC电压感测电路，并且其中所述电感器被配置为过滤高频电流以准确地测量所述基板上的DC电位。

14.如权利要求13所述的静电吸盘，其中所述一或多个吸附电极的每一个由钨制成且具有50微米至90微米的厚度。

15.一种静电吸盘，包括：

圆盘，所述圆盘具有支撑表面以及相对的第二表面，当基板设置于所述圆盘上时，所述支撑表面支撑所述基板，其中一或多个吸附电极嵌入于所述圆盘中，其中所述一或多个吸附电极的每一个的厚度是所述一或多个吸附电极的计算出的趋肤深度的3倍至5倍，并且其中所述一或多个吸附电极经由一组一或多个高温同轴缆线而耦接至吸附电源；

主体，所述主体具有耦接至所述圆盘的所述第二表面的支撑表面以支撑所述圆盘；

DC电压感测电路，所述DC电压感测电路设置于所述圆盘的所述支撑表面上；及

电感器，所述电感器设置于所述主体中且靠近所述主体的支撑表面，其中所述电感器电耦接至所述DC电压感测电路，并且其中所述电感器被配置为过滤高频电流以准确地测量所述基板上的DC电位。