[发明专利]高压气体容器的清洗方法和高压气体容器

说明书

本发明提供适合于除去高压气体容器内的水分的清洗方法，在本发明的高压气体容器的清洗方法中，重复进行向高压气体容器导入具有亲水性的气体而进行升压的升压工序和将上述高压气体容器内的气体排出的排气工序。

技术领域

本发明涉及用于除去高压气体容器内的水分的清洗方法。

背景技术

为了运输医疗设备和分析设备的校正用的标准气体和半导体用高纯度气体，使用大量的高压气体容器。为了长期保持这些标准气体和高纯度气体的品质，在气体的填充前进行适当的容器内的清洗处理。特别是在氯化氢、氯、二氧化硫、氨等与水分的亲和性强的气体用容器中，需要在填充前充分地除去容器内的水分。

作为含有铁、铬、钼、锰和它们的合金的金属制的高压气体容器内的水分除去方法，一般能够列举(1)使用氮等不活泼气体重复进行升压和减压的清洗，(2)对容器进行加温而重复进行使用氮等不活泼气体的升压和减压的加温真空清洗。但是，在这些方法中，如果在利用不活泼气体进行水分除去之后，不能充分地除去水分而填充具有亲水性的气体(具有与水分的亲和性的气体)，则存在在容器内微量残留的水分与气体亲和，与调制时的浓度相比气体纯度低等不能获得稳定的标准气体和高纯度气体的品质的问题。此外，根据气体的种类，还存在成为高压气体容器内面的生锈、腐蚀的原因的情况。

关于用于容器内等的水分除去的清洗，例如在下述的专利文献1、2中有所记载。在专利文献1中，通过将液化氯化氢填充于容器，在30～50℃进行加温，将高压气体容器内的水分和成为水分的原因的氧化物除去。但是，由于填充液化氯化氢，之后进行排出，所以使用大量的制品(液化氯化氢)，并不是经济的方法。

在专利文献2中，基板上的水分除去使用高纯度氯化氢、高纯度溴化氢、高纯度氨。但是，因为仅向基板上吹送气体，所以水分的除去效率差，需要大量的清洗气体。此外，由于在一般的高压气体容器中气体吹送口为一处，所以气体的流动偏向一方，仅能够向容器内的一部分吹送高纯度气体，难以遍及容器内的角落进行水分除去。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第3920544号公报

专利文献2：日本特开平9-106974号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明是在这样的情况之下想到的发明，其课题在于提供适合于除去高压气体容器内的水分的清洗方法。

用于解决课题的手段

由本发明的第一方面提供的高压气体容器的清洗方法的特征在于：重复进行向高压气体容器导入具有亲水性的气体而升压的升压工序和将上述高压气体容器内的气体排出的排气工序。

优选上述升压工序中的上述高压气体容器的内部的最高压力为0.1MPaG以上。

优选上述排气工序中的上述高压气体容器的内部的最低压力为大气压以下。

优选上述高压气体容器具有在规定的工作温度以上熔化的易熔塞，在上述升压工序和上述排气工序中，上述高压气体容器的温度被维持在30℃以上且低于上述工作温度。

优选导入上述高压气体容器的上述具有亲水性的气体的纯度为99.99vol.％以上。

优选上述具有亲水性的气体为选自氯化氢、溴化氢、氯、二氧化硫和氨中的任一种气体。

由本发明的第二方面提供的高压气体容器的特征在于：利用本发明的第一方面的高压气体容器的清洗方法进行了清洗处理。

本发明的其它特征和优点通过参照附图在以下进行详细说明而明了。

附图说明