[发明专利]自清洁光学传感器组件有效
申请号: | 201580067099.X | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN106999994B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 妮玛·纳巴维 | 申请(专利权)人: | 妮玛·纳巴维 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;G02B27/00 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 刘钊;齐葵 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 光学 传感器 组件 | ||
1.一种清洁设备,用于清洁保护光学装置的光学主体的光学窗口,所述光学装置具有通过所述光学窗口的视线,所述设备包括:
流体施加器;
擦拭器;
致动器,该致动器能操作地构造成引起所述光学主体与所述流体施加器及所述擦拭器之间的相对移动以启动:
清洁循环的第一阶段,其中所述光学窗口被所述擦拭器清洁;以及
所述清洁循环的第二阶段,其中液体膜被所述流体施加器施加以覆盖所述光学窗口,所述液体膜在所述光学窗口上保持在所述清洁循环的完成与随后的清洁循环的开始之间延续的时间段,所述液体膜允许所述光学装置的光学操作同时阻碍污染物粘附到所述液体膜下方的所述光学窗口。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述流体施加器包括构造成保持用于施加所述液体膜的一定量的液体的流体室,并且其中所述流体施加器包括所述流体室与所述光学主体之间的主密封件,该主密封件能操作地构造成用作分配器,用于在所述流体施加器与所述光学主体之间的相对运动期间将所述液体膜施加到所述光学主体。
3.根据权利要求2所述的设备,其中所述主密封件的尺寸和压缩之一能操作地构造成控制在所述流体施加器与所述光学主体之间的相对运动期间施加到所述光学窗口的所述液体膜的厚度。
4.根据权利要求2至3中任一项所述的设备,其中所述擦拭器被成形为在由所述致动器引起的相对移动期间引导污染物远离所述光学窗口。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述擦拭器邻近所述主密封件设置。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其中所述擦拭器具有长度使得其垂直于相对移动方向的投影等于或略大于所述光学窗口的与在所述清洁循环的第二阶段期间由所述流体施加器施加的所述液体膜的表面的宽度对应的部分。
7.根据权利要求1所述的设备,其中所述流体施加器包括构造成保持用于施加所述液体膜的一定量的液体的流体室。
8.根据权利要求2至3中任一项所述的设备,进一步包括构造为存储用于施加所述液体膜的液体的液体存储源,并且其中所述液体存储源与所述流体室液体连通。
9.根据权利要求8所述的设备,进一步包括:
将所述流体室连接到所述液体存储源的第一流体管线;
将所述流体室连接到所述液体存储源的第二流体管线;
联接到所述第一流体管线的第一止回阀,所述第一止回阀构造成允许液体从流体储存器流到所述液体存储源,并且阻止液体从所述液体存储源流动到所述流体室;以及
联接到所述第二流体管线的第二止回阀,所述第二止回阀构造成允许液体从所述液体存储源流到所述流体室,并且阻止液体从所述流体室流到液体存储源。
10.根据权利要求9所述的设备,进一步包括与所述第一流体管线液体连通地联接在所述第一止回阀和所述液体存储源之间的过滤器,使得通过所述第一止回阀的液体在进入所述液体存储源之前通过所述过滤器,所述过滤器能操作以从所述液体去除污染物。
11.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其中所述光学主体包括以下之一:
光学圆筒;
平面光学表面;和
球体。
12.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其中所述致动器能操作地构造成引起以下之一:
所述光学主体与所述流体施加器及所述擦拭器之间的线性往复相对移动;
所述光学主体与所述流体施加器及所述擦拭器之间的旋转往复相对移动;
所述光学主体与所述流体施加器及所述擦拭器之间在单个方向上的间歇旋转相对移动;和
所述光学主体与所述流体施加器及所述擦拭器之间在单个方向上的连续旋转相对移动。
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