[发明专利]使用图案形成装置形貌引入的相位的方法和设备

权利要求书

1.一种方法，所述方法包括：

获得由光刻图案形成装置的图案的三维形貌导致的波前相位信息；以及

基于所述波前相位信息且使用计算机处理器来调整所述图案的物理参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案是器件的设计布局且所述波前相位信息仅仅针对于图案的子图案来指定。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：对于所述图案的经过调整的物理参数，获得由所述图案的三维形貌导致的波前相位信息并调整所述图案的物理参数的参数，其中所述获得步骤和调整步骤被重复直至满足一定的终止条件为止。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述调整步骤改进所述图案的成像的对比度。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述计算的波前相位信息包括跨衍射级的奇相位分布或其数学描述。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述调整步骤包括确定由光刻图案形成装置的所述图案的三维形貌导致的相位的最小值。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述相位的最小值在衍射级的范围上。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述物理参数包括选自下列中的一种或多种：折射率、消光系数、侧壁角、厚度、特征宽度、节距和/或叠层的参数。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，调整物理参数包括从吸收体的库中选择图案的吸收体。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，获得波前相位信息包括严格计算波前相位信息。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，一组基函数用于描述波前相位信息，例如泽尼克、琼斯、贝塞尔或穆勒表达式。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述调整步骤包括使用波前相位信息作为模拟模型中的核心。

13.根据权利要求1所述的方法，还包括基于波前相位信息来调整光刻设备的参数。

14.一种非易失性计算机程序产品，包括配置成使处理器执行根据权利要求1所述的方法的机器可读指令。

15.一种制造器件的方法，其中器件图案被使用光刻过程施加至一系列的衬底，所述方法包括使用根据权利要求1的方法来制备所述器件图案和将所述器件图案曝光到衬底上。